[发明专利]具有有限缺陷的膜片组件和相关方法在审
申请号: | 201880091272.3 | 申请日: | 2018-12-21 |
公开(公告)号: | CN111867706A | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 克里斯蒂安·格贝尔特 | 申请(专利权)人: | 纳诺斯通水务公司 |
主分类号: | B01D63/06 | 分类号: | B01D63/06;B01D39/00;B01D63/08;B01D65/10;B01D71/02 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 王瑞朋;胡彬 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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搜索关键词: | 具有 有限 缺陷 膜片 组件 相关 方法 | ||
一种组件包括平坦陶瓷分段、封装材料和壳体。该组件展现出相对低的压力衰减。提供了一种制备这种组件的方法。
技术领域
一种具有有限缺陷的水过滤组件及相关方法。
背景技术
很多的水含有可能对人类或环境有害的污染物。膜通常用于去除这些污染物。膜元件通常由塑料、聚合物或陶瓷制成,其中的两种材料经常被放置在壳体内以容纳待处理的加压流体。典型地,膜的端部被封装以形成膜组件。膜组件随后进行缺陷测试。当封装后进行测试时,整个组件被确定为可接受或不可接受,不可接受的组件不再使用。而且,当前的陶瓷组件难以实现低的缺陷发生率。此外,陶瓷组件聚焦的当前工艺在于堵塞缺陷,或者使用具有减少的透水性的厚涂层。
过去,陶瓷组件被制成具有多个圆柱形构造的小通道。这些分段是通过挤压含有水的坯体制成的。最近,陶瓷分段通过使用具有多行通道的平坦分段来制造。挤压时,平坦分段通常放置在扁平支架上。
发明内容
本公开寻求提供展现出相对好的完整性的组件,例如通过如本文所述的相对低的压力衰减来显示。本公开还寻求提供制造和使用这种组件的方法。
压力衰减是一种度量,它给出了膜片中缺陷数量的指示。空气通过率的大小给出了缺陷数量的指示,缺陷的尺寸由所施加的压力决定。一段时间内测量的压力衰减率也取决于高压下的空气体积。相同体积的空气通过缺陷时,较大体积的压缩空气衰减较少。在使用中,膜片中的缺陷通路被水穿过膜的好的区域的通路所抵消,这会导致可以穿过缺陷的污染物的稀释。面积的增加导致更多的水穿过好的区域,并稀释通过缺陷的相对贡献。由于膜片的面积A和加压体积V的影响,以下等式可用于确定给定的压力衰减率D是否可接受:
D*V/A=Δ
其中Δ是独立于设计的压力衰减。这可以基于特定的膜片设计重新设置,以确定可接受的衰减速率:
D=ΔA/V
在本文献中,A以平方米为单位,V以升为单位,Δ以mBar*L/(m2*min)为单位。当然,也可以使用其他单位,Δ的值随单位而变化。
通常,独立于设计的压力衰减是在特定温度下测量的。除非本文另有说明,否则所提供的独立于设计的压力衰减的值是在25℃下测量的。
在一些实施例中,本公开提供了一种组件,该组件包括:至少两个单独的平坦陶瓷分段,该平坦陶瓷分段包括多行通道,每行具有超过一个通道;将至少两个单独的平坦陶瓷分段保持在一起的封装材料;以及容纳至少两个单独的平坦陶瓷分段和封装材料的壳体。壳体、封装材料和至少两个单独的平坦陶瓷分段限定了过滤组件。当根据以下测试方法测量时,组件被配置为能够提供小于36mBar*L/m2*min的独立于设计的压力衰减:润湿陶瓷并完全去除夹带的空气;向壳体的端口施加1bar压力的空气;并且关闭到端口的空气供应,并且测量温度为25℃的通道中的独立于设计的压力衰减。在某些实施例中,组件可以被配置为能够提供小于18mBar*L/m2*min(例如,根据测试方法小于9.1mBar*L/m2*min,小于4.5mBar*L/m2*min)的独立于设计的压力衰减。
在一些实施例中,本公开提供了一种整体式过滤组件,其包括通过封装材料保持在壳体中的多个单独的陶瓷分段。当根据以下方法测量时,组件被配置为能够提供小于36mBar*L/m2*min的独立于设计的压力衰减:润湿陶瓷并完全去除夹带的空气;向壳体的端口施加1bar压力的空气;并且关闭到端口的空气供应,并且测量温度为25℃的通道中的独立于设计的压力衰减。在一些实施例中,组件可以被配置为能够提供小于18mBar*L/m2*min(例如,小于9.1mBar*L/m2*min,小于4.5mBar*L/m2*min)的独立于设计的压力衰减。
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