[发明专利]具有有限缺陷的膜片组件和相关方法在审
申请号: | 201880091272.3 | 申请日: | 2018-12-21 |
公开(公告)号: | CN111867706A | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 克里斯蒂安·格贝尔特 | 申请(专利权)人: | 纳诺斯通水务公司 |
主分类号: | B01D63/06 | 分类号: | B01D63/06;B01D39/00;B01D63/08;B01D65/10;B01D71/02 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 王瑞朋;胡彬 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 有限 缺陷 膜片 组件 相关 方法 | ||
1.一种组件,包括:
至少两个单独的平坦陶瓷分段,该平坦陶瓷分段包括多行通道,每行多于一个通道;
封装材料,其将所述至少两个单独的平坦陶瓷分段保持在一起;以及
壳体,其容纳所述至少两个单独的平坦陶瓷分段和封装材料,
其中:
所述壳体、封装材料和至少两个单独的平坦分段限定了过滤组件;并且
当根据以下测试方法测量时,该组件被配置为能够提供小于36mBar*L/m2*min的独立于设计的压力衰减,所述测试方法包括:
润湿陶瓷并完全去除夹带的空气;
向所述壳体的端口施加1bar压力的空气;和
关闭至端口的空气供应,并在25℃的温度下测量通道中的独立于设计的压力衰减。
2.根据权利要求1所述的组件,其中所述组件被配置为能够根据测试方法提供小于18mBar*L/m2*min、优选地小于9.1mBar*L/m2*min或优选地小于4.5mBar*L/m2*min的独立于设计的压力衰减。
3.一种整体式过滤组件,包括通过封装材料保持在壳体中的多个独立的陶瓷分段,其中该组件被配置为当根据以下方法测量时能够提供小于36mBar*L/m2*min的独立于设计的压力衰减,所述方法包括:
润湿陶瓷并完全去除夹带的空气;
向所述壳体的端口施加1bar压力的空气;和
关闭至端口的空气供应,并在25℃的温度下测量通道中的独立于设计的压力衰减。
4.一种组件,包括:
至少两个单独的平坦陶瓷分段,该平坦陶瓷分段包括多行通道,每行多于一个通道;
封装材料,其将所述至少两个单独的平坦陶瓷分段保持在一起;以及
壳体,其容纳所述至少两个单独的平坦陶瓷分段和封装材料,
其中:
所述壳体、封装材料和至少两个单独的平坦分段限定了过滤组件;并且
当根据以下方法测量时,该组件被配置成能够提供小于36mBar*L/m2*min的独立于设计的压力衰减,所述方法包括:
润湿所述分段;
当所述分段的外部部分通向大气环境时,以高于0.1bar的压力向通道施加空气;
停止向通道的空气供应;以及
在25℃的温度下,测量通过所述分段的独立于设计的压力衰减。
5.根据权利要求3或4所述的组件,其中,所述组件被配置为能够提供小于18mBar*L/m2*min、优选地小于9.1mBar*L/m2*min或优选地小于4.5mBar*L/m2*min的独立于设计的压力衰减。
6.根据权利要求4或5所述的组件,其中,所述方法包括当所述分段的外部部分通向大气环境时,以高于0.5bar、优选地高于0.75bar或优选地高于1.0bar的压力将空气施加到所述通道。
7.一种整体式过滤组件,包括通过封装材料保持在壳体中的多个独立的陶瓷分段,其中该组件被配置为当根据以下方法测量时能够提供小于36mBar*L/m2*min的独立于设计的压力衰减,所述方法包括:
润湿所述分段;
当所述分段的外部部分通向大气环境时,以高于0.1bar的压力向通道施加空气;
停止向通道的空气供应;以及
在25℃的温度下,测量通过所述分段的独立于设计的压力衰减。
8.根据权利要求7所述的组件,其中,所述组件被配置为能够提供小于18mBar*L/m2*min、优选地小于9.1mBar*L/m2*min或优选地小于4.5mBar*L/m2*min的独立于设计的压力衰减。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳诺斯通水务公司,未经纳诺斯通水务公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880091272.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。