[发明专利]一种处理系统和在3D堆栈存储器中混写的方法有效

专利信息
申请号: 201880069807.7 申请日: 2018-09-18
公开(公告)号: CN111279322B 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 约翰·吴;迈克尔·K·西劳拉;拉塞尔·施莱伯;塞缪尔·纳夫齐格 申请(专利权)人: 超威半导体公司
主分类号: G06F12/02 分类号: G06F12/02;G06F12/06;G06F3/06
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠;张华
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 处理 系统 堆栈 存储器 中混写 方法
【说明书】:

一种处理系统[100]包括计算管芯[102]和与所述计算管芯堆叠在一起的堆栈存储器[104]。所述堆栈存储器包括第一存储器管芯[104B]和堆叠在所述第一存储器管芯顶部上的第二存储器管芯[104A]。使用单个存储器地址的并行访问指向所述第一存储器管芯和所述第二存储器管芯的不同存储体[206、208]。所述并行访问的所述单个存储器地址被混写以访问在不同的物理位置处的所述第一存储器管芯和所述第二存储器管芯。

技术领域

发明涉及计算机领域,具体涉及一种计算机处理系统和在3D堆栈存储器中混写的方法。

背景技术

三维(3D)电路集成通常包括水平和/或竖直堆叠的装置,以提供堆栈管芯之间的改善通信并减少堆栈装置所占据的面积。例如,可以在存储器装置中利用耦接的各层存储器元件(称为3D堆栈存储器,或堆栈存储器)。通过用3D集成使处理器与存储器之间的互连件的数目不再受管芯外引脚计数的限制,多个线程可并行访问堆栈存储器,以为各种计算操作提供更高的带宽。

发明内容

本发明公开了一种处理系统,所述处理系统包括计算管芯以及堆栈存储器,所述堆栈存储器与所述计算管芯堆叠在一起,其中所述堆栈存储器包括第一存储器管芯和堆叠在所述第一存储器管芯顶部上的第二存储器管芯,并且进一步其中使用单个存储器地址的并行访问被混写以并行访问所述第一存储器管芯的第一部分和所述第二存储器管芯的第二部分,所述第二部分从同一存储器管芯上的所述第一部分偏移。

本发明还公开了一种集成电路(IC)封装,包括管芯堆栈的存储器装置,所述管芯堆栈的存储器装置包括多个堆栈存储器管芯,其中使用单个存储器地址的并行访问被混写以访问在不同物理位置处的所述多个堆栈存储器管芯,所述不同的物理位置在同一存储芯片上相对彼此偏移。

本发明还公开了一种在堆栈存储器处进行地址混写的方法,所述方法包括响应于接收到使用单个存储器地址的并行访问请求,混写所述单个存储器地址以并行访问管芯堆栈的存储器的第一存储器管芯的第一部分和第二存储器管芯的第二部分,所述第二部分从同一存储器管芯上的所述第一部分偏移。

附图说明

通过参考附图,可更好地理解本公开,并且本公开的许多特征和优点对本领域的技术人员来说变得显而易见。在不同附图中使用相同的参考符号来表示类似或等同的项。

图1是根据一些实施方案采用在堆栈存储器中的指数混写的处理系统的框图。

图2是根据一些实施方案的具有不平衡热生成的示例性堆栈存储器配置的框图。

图3是根据一些实施方案的使用地址混写来实现热平衡的示例性堆栈存储器配置的框图。

图4是示出根据一些实施方案的使用地址混写来实现热平衡的另一示例行堆栈存储器配置的框图。

图5是根据一些实施方案在堆栈存储器处进行地址混写的方法的流程图。

具体实施方式

存储器带宽和延迟有时是处理系统的性能瓶颈。这些性能因素可以通过使用堆栈存储器来改善,所述堆栈存储器经由使用例如硅通孔(TSV)将多层堆栈存储器互连来提供增加的带宽和减少的装置内。然而,与堆栈存储器相关联的热问题通常是3D存储器堆栈的最大可接受高度的限制因素,从而限制了处理单元可用的存储器容量,并且不利地影响了所提供的存储器管芯的正确操作。例如,在集成电路中的处理器核心在正常操作期间消耗功率并生成热量,所述热量不利地影响相邻的存储器装置的性能。较高的温度通过导致更频繁的刷新周期,从而增加功率消耗而有助于存储器性能的劣化。堆栈存储器的堆叠布置进一步加剧了散热问题,因为多个生成热量的管芯彼此紧邻并且必须共享散热器。存储器,并且特别是3D堆栈存储器在受益于用于可靠且可预测的操作的温度调节的温度范围内操作。缩小管芯大小和堆叠存储器管芯以允许增大的电路部件/存储器密度进一步增加了维持用于处理器的安全且高效操作的温度的挑战。因此,改善的从3D堆栈存储器的散热通过降低存储器的温度来提高存储器的可靠性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于超威半导体公司,未经超威半导体公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880069807.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top