[发明专利]用于高RES FMM的FMM工艺

权利要求书

1.一种掩模组件，包括：

公共金属掩模，所述公共金属掩模具有从中穿过的至少一个窗口；和

精细金属掩模，所述精细金属掩模设置在所述至少一个窗口内。

2.如权利要求1所述的掩模组件，其中所述精细金属掩模在所述至少一个窗口内定位在中心上方。

3.如权利要求1所述的掩模组件，其中所述精细金属掩模在所述至少一个窗口内定位在中心下方。

4.如权利要求1所述的掩模组件，其中所述公共金属掩模耦接到框架。

5.一种掩模组件，包括：

公共金属掩模部分，所述公共金属掩模部分具有从中穿过而形成的多个窗口；和

多个精细金属掩模部分，所述多个精细金属掩模部分设置在所述公共金属掩模部分的所述多个窗口内。

6.如权利要求5所述的掩模组件，其中所述多个精细金属掩模部分的每一个的位置在所述公共金属掩模部分的中心处或附近定位在较高处，而在所述公共金属掩模部分的边缘附近逐渐地降低。

7.如权利要求5所述的掩模组件，其中所述多个精细金属掩模部分的每一个的垂直位置从所述公共金属掩模部分的所述中心向所述边缘渐缩。

8.如权利要求5所述的掩模组件，其中所述公共金属掩模部分耦接到框架。

9.如权利要求5所述的掩模组件，其中所述多个精细金属掩模部分的每一个通过电铸镀覆来耦接到所述公共金属掩模部分。

10.一种制造掩模组件的方法，包括：

制造在其中具有多个窗口的公共金属掩模；

形成精细金属掩模，包括：

形成畸变补偿母版，所述畸变补偿母版具有穿过所述畸变补偿母版形成的多个畸变补偿窗口，所述畸变补偿窗口的垂直位置在所述畸变补偿母版的中心处或附近定位在较高处，而在所述畸变补偿母版的边缘附近逐渐地降低；和

在所述畸变补偿窗口的每一个内形成精细金属掩模图案；和

组合所述公共金属掩模和所述精细金属掩模，使得所述精细金属掩模图案设置在所述公共金属掩模的所述窗口中。

11.如权利要求10所述的方法，其中形成所述精细金属掩模包括电铸工艺。

12.如权利要求10所述的方法，进一步包括：

将所述公共金属掩模耦接到框架，所述框架包括坚固金属材料，其中所述公共金属掩模在张力下耦接到所述框架。

13.如权利要求10所述的方法，进一步包括：

移除所述畸变补偿母版。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述畸变补偿母版由玻璃制成。

15.如权利要求10所述的方法，进一步包括：

在所述畸变补偿窗口的每一个中的所述精细金属掩模图案的至少一部分上方形成保护覆盖物，所述保护覆盖物包括光刻胶；和

移除所述保护覆盖物。