[发明专利]用以支撑真空腔室中载体或部件的支撑装置、用以支撑真空腔室中载体或部件的支撑装置的使用、用以处理真空腔室中载体的设备、及真空沉积系统在审
申请号: | 201880040345.6 | 申请日: | 2018-07-26 |
公开(公告)号: | CN111212930A | 公开(公告)日: | 2020-05-29 |
发明(设计)人: | 马蒂亚斯·赫曼尼斯 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C14/12 | 分类号: | C23C14/12;C23C14/04;C23C14/50;H01L21/677;H01L21/68;H01L21/683;B25J15/06 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用以 支撑 空腔 载体 部件 装置 使用 处理 设备 真空 沉积 系统 | ||
说明一种用以支撑真空腔室(101)中的载体或部件的支撑装置(100)。支撑装置(100)包括一或多个电性可控制支撑元件(111);壳体(112),用以至少部分地容置此一或多个电性可控制支撑元件(111),壳体具有容置部(113),用于此一或多个电性可控制支撑元件(111);密封件(114),用以提供壳体和布置于容置部(113)中的此一或多个电性可控制支撑元件(111)之间的气密密封;以及气密连接件(115),用于电性供应线,电性供应线用于此一或多个电性可控制支撑元件(111)。再者,说明一种制造支撑装置的方法、一种用以处理真空腔室中的载体的设备、及一种真空沉积系统。
技术领域
本公开的数个实施方式是有关于数种用以在真空条件下支撑载体或部件的支撑装置,数种制造支撑装置的方法、数种用以处理载体的设备,及数种真空沉积系统。特别是,本公开的数种实施方式有关于数种构造以用于支撑、移动或对准真空腔室中的载体的支撑装置及设备。再者,本公开的数种实施方式特别是有关于数种用以沉积材料于载体所运载的的基板上的真空沉积系统,其中基板在沉积之前相对于掩模对准。支撑装置、用以处理载体的设备、及真空沉积系统的数种实施方式特别构造以在真空条件下使用,举例为用以制造有机发光二极管(organic light-emitting diode,OLED)装置。
背景技术
用于层沉积于基板上的数种技术举例为包括热蒸发、物理气相沉积 (physicalvapor deposition,PVD)、及化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)。已涂布的基板可使用于数种应用中及数种技术领域中。举例来说,已涂布的基板可使用于有机发光二极管(organic light emitting diode,OLED)装置的领域中。OLEDs可使用于制造电视屏幕、计算机屏幕、移动电话、其他手持装置、及举例为用以显示信息的类似物。OLED装置例如是OLED显示器,可包括一或多个有机材料层。此一或多个有机材料层位于沉积于基板上的两个电极之间。
在沉积涂布材料于基板上期间,基板可由基板载体支撑,及掩模可由掩模载体支撑于基板的前方。对应于掩模的开口图案的材料图案可举例为通过材料蒸发来沉积于基板上。此材料图案举例为多个像素。
OLED装置的功能一般取决于应在预定范围中的涂布图案的准确性及有机材料的厚度。为了取得高分辨率的OLED装置来说,有关于已蒸发材料的沉积的技术挑战必须掌握。特别是,准确及平顺传送运载基板的基板载体及 /或运载掩模的掩模载体通过真空腔室具有挑战性。再者,举例为用以制造高分辨率OLED装置来说,在真空条件下,相对于掩模载体准确的处理基板载体为达成高质量沉积结果的关键。
因此,对于用以在真空条件下支撑载体或部件的改善的支撑装置,制造适用于真空使用的支撑装置的改善的方法,用以处理于真空环境中的载体的改善的设备,及改善的真空沉积系统有持续的需求。
发明内容
有鉴于上述,根据独立独立权利要求提出一种用以支撑真空腔室中的载体或部件的支撑装置,以及一种制造用以支撑真空腔室中的载体的支撑装置的方法。此外,提出一种用以处理真空腔室中的载体的设备,此设备包括根据此处所述的数个实施方式的支撑装置。再者,提出一种真空沉积系统,此真空沉积系统包括根据此处所述的数个实施方式的一种用以处理载体的设备。其他方面、优点、及特征通过从属权利要求、说明、及附图更为清楚。
根据本公开的一方面,提出一种用以支撑真空腔室中的载体或部件的支撑装置。支撑装置包括一或多个电性可控制支撑元件;以及壳体,用以至少部分地容置此一或多个电性可控制支撑元件。壳体具有容置部,用于此一或多个电性可控制支撑元件。此外,支撑装置包括密封件,用以提供壳体和布置于容置部中的此一或多个电性可控制支撑元件之间的气密密封。再者,支撑装置包括气密连接件,用于电性供应线,电性供应线用于此一或多个电性可控制支撑元件。
根据本公开的其他方面,提出根据此处所述任何其他实施方式所述的用以支撑真空处理系统中的载体或部件的支撑装置的使用。
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