[发明专利]氢气辅助的集成排放控制系统有效
| 申请号: | 201880036856.0 | 申请日: | 2018-04-03 |
| 公开(公告)号: | CN110709590B | 公开(公告)日: | 2022-07-05 |
| 发明(设计)人: | S·孙;T·纽鲍尔;P·R·派特沃德汗;S·斯蒂贝尔斯;C·赞贝尔 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫公司 |
| 主分类号: | F01N3/20 | 分类号: | F01N3/20;F01N9/00;F01N3/10 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 徐国栋;林柏楠 |
| 地址: | 美国新*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 氢气 辅助 集成 排放 控制系统 | ||
1.一种用于处理排气料流的排放控制系统,其包含:
布置在与排气料流流体连通的基底上的氧化催化剂组合物;
布置在所述氧化催化剂组合物下游的基底上的至少一种选择性催化还原(SCR)组合物;和
配置成在所述氧化催化剂组合物上游或在所述氧化催化剂组合物下游和在所述至少一种SCR组合物上游将氢气引入排气料流中的氢气喷射制品;
其中所述至少一种SCR组合物包含含有分散在耐火金属氧化物载体上的铂族金属组分的第一SCR催化剂和含有含贱金属的分子筛的第二SCR催化剂。
2.根据权利要求1的排放控制系统,其中负载所述至少一种SCR组合物的基底是流通型整料或整料壁流式过滤器。
3.根据权利要求1的排放控制系统,其中第一SCR催化剂包含铑。
4.根据权利要求1的排放控制系统,其中所述贱金属包含铜和/或铁。
5.根据权利要求1的排放控制系统,其中所述分子筛是8环小孔分子筛。
6.根据权利要求1的排放控制系统,其中所述分子筛是具有选自AEI、AFT、AFX、CHA、EAB、ERI、KFI、LEV、SAS、SAT和SAV的结构的沸石。
7.根据权利要求1的排放控制系统,其中所述分子筛是具有CHA晶体结构和约1至约1000的硅铝比的铝硅酸盐沸石。
8.根据权利要求1的排放控制系统,其中所述贱金属以含贱金属的分子筛的总重量的约0.1重量%至约10重量%存在于分子筛中。
9.根据权利要求1的排放控制系统,其中第一SCR催化剂包含基于负载SCR催化剂组合物的基底体积计约5g/ft3至约250g/ft3的铂族金属组分。
10.根据权利要求1的排放控制系统,其中第一SCR催化剂进一步包含氨吸附组分。
11.根据权利要求10的排放控制系统,其中所述氨吸附组分是选自斜发沸石、丝光沸石和β沸石的沸石。
12.根据权利要求1至3任一项的排放控制系统,其中所述系统除布置在基底上的氧化催化剂组合物和布置在基底上的所述至少一种选择性催化还原(SCR)组合物外在所述排放控制系统内不含任何其它排放处理单元。
13.根据权利要求1至3任一项的排放控制系统,其中所述氧化催化剂组合物包含分散在耐火金属氧化物载体上的铂族金属组分。
14.根据权利要求13的排放控制系统,其中所述氧化催化剂组合物包含基于基底体积计约5g/ft3至约250g/ft3的铂族金属组分。
15.根据权利要求1至3任一项的排放控制系统,其中所述系统配置为间歇引入储存的氢气。
16.根据权利要求1至3任一项的排放控制系统,其中所述系统配置为在冷启动期间引入储存的氢气。
17.根据权利要求1至3任一项的排放控制系统,其进一步包含储氢制品。
18.根据权利要求1至3任一项的排放控制系统,其中负载所述至少一种SCR催化剂组合物的基底是包含划定轴向长度的前上游端和后下游端的整料壁流式过滤器制品。
19.根据权利要求18的排放控制系统,其中所述至少一种SCR催化剂组合物包含含第一SCR催化剂的第一SCR涂布层和含第二SCR催化剂的第二SCR涂布层。
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