[实用新型]一种用于安装在晶片抛光设备上的抛光液回收装置有效
| 申请号: | 201821944892.0 | 申请日: | 2018-11-24 |
| 公开(公告)号: | CN209140708U | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
| 发明(设计)人: | 王文昌;于会永;赵春峰;袁韶阳;荆爱明;穆成锋;张军军 | 申请(专利权)人: | 大庆佳昌晶能信息材料有限公司 |
| 主分类号: | B24B57/00 | 分类号: | B24B57/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 163000 黑龙江省*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 收集斗 工作台 单向导槽 回收装置 双向导槽 抛光液 漏孔 抛光液回收装置 晶片抛光设备 本实用新型 连接轴 电机顶部 顶部中心 搅拌螺旋 积液斗 交叉口 电机 外围 | ||
本实用新型涉及回收装置技术领域,尤其为一种用于安装在晶片抛光设备上的抛光液回收装置,包括回收装置主体、收集斗以及积液斗,所述回收装置主体内设有工作台,所述工作台底部固定安装有收集斗,所述收集斗底部固定安装有电机,所述电机顶部固定安装有连接轴,所述连接轴顶部固定安装有搅拌螺旋,所述工作台顶部外围平板之间固定安装有单向导槽,所述工作台顶部中心平板之间固定安装有双向导槽,所述单向导槽与双向导槽交叉口固定安装有漏孔,本实用新型通过设置的单向导槽以及双向导槽,在工作台顶部平板之间固定开设,将多余的抛光液导向漏孔,通过漏孔流入收集斗,将多余的抛光液聚集在收集斗内,使用时可以轻松收集抛光液并很好的聚集。
技术领域
本实用新型涉及回收装置技术领域,具体为一种用于安装在晶片抛光设备上的抛光液回收装置。
背景技术
由于材料需要在硬度非常大的蓝宝石衬底晶片上外延生长而制得,因此,在蓝宝石衬底晶片上均匀生长对蓝宝石衬底晶片的质量要求非常高,除了要有很好的晶体质量外,对蓝宝石表面弯曲度,平整度以及翘曲度的要求,而要达到对这些指标的要求离不开高质量,高精度的表面研磨抛光加工。
现有的晶片在进行抛光加工时,会使用到抛光液进行抛光,但使用时会有一部分多余,不处理会对环境造成污染,直接处理掉又会有一定的浪费,不能对多余的抛光液进行一定的回收再利用,节约资源。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于安装在晶片抛光设备上的抛光液回收装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种用于安装在晶片抛光设备上的抛光液回收装置,包括回收装置主体、收集斗以及积液斗,所述回收装置主体正面固定安装有工作指示灯,所述回收装置主体底部固定安装有支撑柱,所述支撑柱底部固定安装有固定板,所述支撑柱之间固定安装有固定杆,所述支撑柱一侧固定安装有泵机,所述泵机顶部固定安装有连接管,所述回收装置主体内设有工作台,所述工作台底部固定安装有收集斗,所述收集斗底部固定安装有电机,所述电机顶部固定安装有连接轴,所述连接轴顶部固定安装有搅拌螺旋,所述电机两侧固定安装有过滤层,所述过滤层底部固定安装有积液斗,所述积液斗底部固定安装有传液管,所述工作台顶部固定有挡板,所述挡板内侧固定安装有平板,所述工作台顶部外围平板之间固定安装有单向导槽,所述工作台顶部中心平板之间固定安装有双向导槽,所述单向导槽与双向导槽交叉口固定安装有漏孔。
优选的,所述单向导槽靠近漏孔的一端较低,且另一侧较高。
优选的,所述双向导槽中间较高,且向两端逐渐降低。
优选的,所述传液管两端固定安装有弯头。
优选的,所述积液斗通过传液管固定连接泵机。
优选的,所述收集斗内壁固定安装有多组溜槽。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1.本实用新型中,通过设置的单向导槽以及双向导槽,在工作台顶部平板之间固定开设,将多余的抛光液导向漏孔,通过漏孔流入收集斗,将多余的抛光液聚集在收集斗内,使得设备使用时,可以轻松收集抛光液,并很好的聚集。
2.本实用新型中,通过设置的搅拌螺旋以及过滤层,抛光液流入后通过过滤层进行过滤,方便进行再利用,且通过电机带动搅拌螺旋旋转,进行搅动,避免沉淀物堵塞过滤层,影响正常使用,使得设备使用时,可以有效的对抛光液进行过滤,可以再利用。
3.本实用新型中,通过设置的泵机以及积液斗,过滤后的抛光液流进积液斗,当积累到一定量后,通过泵机抽往抛光液罐进行再次利用,使得设备使用时,完全自动,不需要人工进行装取操作。
附图说明
图1为本实用新型整体外观图;
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