[实用新型]半导体清洗系统有效
| 申请号： | 201821871945.0 | 申请日： | 2018-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN209216931U | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | 顾立勋;蒋阳波;徐融;夏余平 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 董琳;陈丽丽 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洗机台 半导体清洗 本实用新型 半导体制造技术 半导体结构 混合酸溶液 供液装置 连通 清洗 传输 外部 | ||
1.一种半导体清洗系统，其特征在于，包括：
至少一清洗机台，适用于清洗半导体结构；
供液装置，位于所述清洗机台的外部，并与所述清洗机台连通，适用于向所述清洗机台传输混合酸溶液，所述混合酸溶液是由若干原料混合形成的DSP溶液，若干原料包括硫酸、氢氟酸、过氧化氢和水。
2.根据权利要求1所述的半导体清洗系统，其特征在于，所述清洗机台有多个；
所述供液装置适用于向多个所述清洗机台传输所述混合酸溶液。
3.根据权利要求1所述的半导体清洗系统，其特征在于，所述供液装置包括：
多个储液罐，所述储液罐用于制备并存储所述混合酸溶液；
多个所述储液罐均与所述清洗机台连接，适用于交替向所述清洗机台传输所述混合酸溶液。
4.根据权利要求3所述的半导体清洗系统，其特征在于，多个所述储液罐包括两个储液罐；
所述供液装置还包括设置在所述储液罐与清洗机台之间的第一阀门，所述第一阀门用于控制与其连接的储液罐是否与所述清洗机台连通。
5.根据权利要求3所述的半导体清洗系统，其特征在于，所述供液装置还包括：
与若干原料一一对应的若干供液管道，所述供液管道用于传输原料至所述储液罐中。
6.根据权利要求5所述的半导体清洗系统，其特征在于，所述供液装置还包括：
连接于所述储液罐与所述清洗机台之间的传输管道，所述传输管道用于向所述清洗机台传输所述混合酸溶液；
所述供液管道与所述储液罐的顶端连通，所述传输管道与所述储液罐的底端连通。
7.根据权利要求3所述的半导体清洗系统，其特征在于，所述供液装置还包括：
与多个所述储液罐一一对应的多个冷却结构，所述冷却结构用于降低所述储液罐中的所述混合酸溶液的温度。
8.根据权利要求7所述的半导体清洗系统，其特征在于，所述冷却结构包括环绕所述储液罐外壁设置的螺旋形冷凝管；
所述冷凝管适用于传输冷却水。
9.根据权利要求2所述的半导体清洗系统，其特征在于，还包括：
第二阀门，设置在所述清洗机台与供液装置之间，所述第二阀门适用于调整所述供液装置传输至所述清洗机台的混合酸溶液的流速。
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