[实用新型]扩散炉管及扩散炉有效

专利信息
申请号: 201821763301.X 申请日: 2018-10-29
公开(公告)号: CN209052804U 公开(公告)日: 2019-07-02
发明(设计)人: 王诗涛 申请(专利权)人: 珠海格力电器股份有限公司
主分类号: C30B31/10 分类号: C30B31/10;C30B31/16;C30B29/06
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 519070*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 扩散炉管 工艺腔 硅片 炉管 气体输送部件 排气孔组 扩散炉 排气段 进气口 半导体制造设备 室内 本实用新型 工艺腔室 扩散反应 气流紊乱 气体输送 流通区 排气孔 预热段 体内 扩散 缓解
【权利要求书】:

1.一种扩散炉管,其特征在于,包括:

炉管本体,内部形成硅片进行扩散反应的工艺腔室,所述工艺腔内设有用于供硅片经过的硅片流通区;

至少一部分位于所述工艺腔室内的气体输送部件,用于将扩散气体输送至所述炉管本体内;

所述气体输送部件位于所述工艺腔室内的部分包括预热段和排气段,所述排气段上设有至少一个排气孔组,每一个所述排气孔组包括至少一个排气孔。

2.根据权利要求1所述的扩散炉管,其特征在于,所述气体输送部件包括导气管组件,导气管组件包括至少一个导气管;

所述导气管设置于所述炉管本体的内侧壁、且沿所述炉管本体的轴向延伸;

所述导气管的排气段内设有多个沿所述导气管的长度方向分布的多个排气孔组。

3.根据权利要求2所述的扩散炉管,其特征在于,所述导气管组件包括多个所述导气管,其中,一部分导气管设置于所述工艺腔室的顶部,另一部分导气管设置于所述工艺腔室的底部。

4.根据权利要求2所述的扩散炉管,其特征在于,每个所述排气孔组中的各所述排气孔的出气方向均避开所述硅片流通区。

5.根据权利要求4所述的扩散炉管,其特征在于,所述导气管与所述炉管本体的内侧壁之间设有间隙,一个所述排气孔组包括至少一个出气方向朝向所述炉管本体内侧壁的第一排气孔。

6.根据权利要求5所述的扩散炉管,其特征在于,所述排气孔组还包括第二排气孔;

沿所述导气管的周向,每个所述第一排气孔的至少一侧设置所述第二排气孔。

7.根据权利要求6所述的扩散炉管,其特征在于,所述第一排气孔一侧的第二排气孔的数量为多个,且多个所述第二排气孔沿所述导气管的轴向间隔设置。

8.根据权利要求7所述的扩散炉管,其特征在于,所述第二排气孔的孔径为4~6mm。

9.根据权利要求1所述的扩散炉管,其特征在于,所述扩散炉管还包括炉门和绝热堵头,所述炉门设置于所述炉管本体的出气端,所述绝热堵头设置于所述炉门的内侧壁。

10.一种扩散炉,其特征在于,包括:权利要求1-9任一项所述的扩散炉管。

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