[实用新型]一种过程控制设备

权利要求书

1.一种过程控制设备，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体具有限定容积以容纳所述过程控制设备的本体，并适于承受大于外部压力的阈值内部压力，所述本体具有透明部分，所述透明部分具有第一表面和第二表面；

触摸传感器，所述触摸传感器设置在所述透明部分的所述第二表面附近，所述触摸传感器适于感测在离开所述透明部分的所述第一表面的最小距离内所接收的输入；以及

显示器，所述显示器设置在所述触摸传感器和所述过程控制设备附近并且被通信地耦合到所述触摸传感器和所述过程控制设备，以显示所述过程控制设备的至少一个可调节变量。

2.根据权利要求1所述的过程控制设备，其特征在于，还包括：

控制模块，所述控制模块设置在所述壳体内，所述控制模块被耦合到所述触摸传感器、所述显示器、以及所述过程控制设备；

其中，在接收到所述输入时，所述触摸传感器将信号发送到所述控制模块以使得所述控制模块调节所述至少一个可调节变量。

3.根据权利要求1所述的过程控制设备，其特征在于，所述触摸传感器包括电容传感器。

4.根据权利要求3所述的过程控制设备，其特征在于，所述电容传感器包括自电容传感器。

5.根据权利要求3所述的过程控制设备，其特征在于，所述电容传感器包括互电容传感器。

6.根据权利要求1所述的过程控制设备，其特征在于，所述触摸传感器包括基于偏转的传感器。

7.根据权利要求1所述的过程控制设备，其特征在于，所述触摸传感器包括投影式传感器。

8.根据权利要求1所述的过程控制设备，其特征在于，所述透明部分和所述壳体具有大于大约10mm的变化不定的路径。

9.根据权利要求1所述的过程控制设备，其特征在于，窗口由聚合物或非晶态无定形固体构成。

10.根据权利要求1所述的过程控制设备，其特征在于，防爆壳体包括用于接触所述防爆壳体的第一表面的一部分的相向面。

11.根据权利要求10所述的过程控制设备，其特征在于，所述相向面包括通道，控制器还包括填充构件，所述填充构件适于被设置在所述通道内，以在防爆窗口和所述防爆壳体之间形成密封。

12.根据权利要求1所述的过程控制设备，其特征在于，防爆窗口经由密封树脂耦合到防爆壳体。

13.根据权利要求1所述的过程控制设备，其特征在于，所述显示器包括液晶显示器。

14.一种过程控制设备，其特征在于，包括：

第一壳体，所述第一壳体具有限定容积以容纳所述过程控制设备的本体；

第二壳体，所述第二壳体具有限定容积以容纳所述第一壳体的至少一部分的本体；

接口，所述接口耦合到所述第一壳体或所述第二壳体中的至少一个；

触摸传感器，所述触摸传感器设置在所述接口附近，所述触摸传感器适于感测在离开所述接口的最小距离内所接收的输入；

显示器，所述显示器设置在所述传感器附近；以及

控制模块，所述控制模块设置在所述壳体内，所述控制模块被耦合到所述传感器、所述显示器、以及控制器。

15.根据权利要求14所述的过程控制设备，其特征在于，所述第二壳体能够承受大于外部压力的阈值内部压力。

16.根据权利要求15所述的过程控制设备，其特征在于，所述接口能够承受大于所述外部压力的所述阈值内部压力，其中，所述壳体和所述接口形成大于大约10mm的变化不定的路径。