[实用新型]OLED蒸镀用挡板的干冰清洗装置

说明书

本实用新型公开了OLED蒸镀用挡板的干冰清洗装置，包括干冰发生器、设有负压引流装置的材料收集器和清洗腔体，待清洗的OLED蒸镀用挡板置于清洗腔体内，清洗腔体为透明或半透明的封闭结构，顶部设有风机过滤机组，底部与材料收集器连接，内部设有挡板固定装置，干冰发生器与清洗腔体内部连接；该装置采用干冰清洗替代传统有机溶剂清洗，结构简单、易于操作，降低挡板清洗成本，OLED材料回收方便且回收效率高，环境友好。

技术领域

本实用新型属于OLED器件制备技术领域，具体涉及OLED蒸镀用挡板的干冰清洗装置。

背景技术

目前，OLED顶发射器件的结构主要包括发射阳极(RE)、空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、发光层(EML)、电子传输层(ETL)、电子注入层(EIL)、以及阴极(Cathode)依次堆叠构成，具有广视角、高亮高对比度、低能耗和体积更轻薄等优点，是目前平板显示技术关注焦点。

OLED顶发射器件制备过程为：先将金属材料沉积或喷镀到基底材料上以形成反射阳极，可以使用传统有机EL器件衬底，也可使用具有良好机械强度、热稳定性、透明度、表面柔软度、易处理性和耐水性的玻璃衬底或透明塑料衬底。类似地，将具有金属材料沉积或者喷镀到基底材料上以形成反射阴极。反射阳极和反射阴极的优选材料为Ag或Ag合金，反射率大于85％@550nm。再用真空蒸发、旋涂、铸塑或Langmuir-Blodgett(LB)法在阳极上形成空穴注入层(HIL)。

当使用真空蒸发形成HIL时，沉积条件可以根据用作空穴注入材料的化合物类型及结构和HIL热性质而改变，一般沉积温度为50-500℃，真空度为10-8-10-3托，沉积速率为沉积厚度为OLED蒸镀设备结构如图1所示。OLED材料从蒸发源中被加热蒸发，气态OLED材料在玻璃基板附近沉积形成薄膜。但是，上述蒸镀过程中OLED材料不仅在玻璃基板上沉积，也在腔体其他部位沉积，造成OLED材料利用率很低，一般在5％左右。为提高OLED材料利用率，降低生产成本，在OLED蒸镀设备腔体四周包裹挡板，仅可通过更换挡板实现清洗腔体的效果，而且挡板上附着大量OLED材料，可以回收利用进一步节约成本。

但是，现有技术中挡板清洗成本高，因为挡板尺寸较大，并且不规则。需要大量的有机溶剂浸泡和清洗。比如大量使用二氯甲烷。成本很高。OLED材料难于回收，清洗后OLED材料溶解在大量有机溶剂中，如果想要回收，需要很多的能源去蒸发有机溶剂，且大量使用有机溶剂，污染环境。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种OLED蒸镀用挡板的干冰清洗装置，采用干冰清洗替代传统有机溶剂清洗方式，降低挡板清洗成本，容易回收OLED材料，且环境友好，克服现有装置对OLED蒸镀用挡板进行清洗成本高、污染环境等问题。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：

OLED蒸镀用挡板的干冰清洗装置，包括干冰发生器、材料收集器和清洗腔体，待清洗的OLED蒸镀用挡板置于所述清洗腔体内；其中，

所述清洗腔体为透明或半透明的封闭结构，顶部设有风机过滤机组(FFU)，底部与所述材料收集器连接，内部设有所述待清洗OLED蒸镀用挡板的固定装置；

所述干冰发生器与所述清洗腔体内部连接；

所述材料收集器设有负压引流装置。

优选地，所述干冰清洗装置还包括风刀吹干装置、红外加热装置和喷砂装置。

优选地，所述清洗腔体为倒梯形结构。

优选地，所述清洗腔体外部与高压水喷淋装置连接。

优选地，所述清洗腔体的侧壁设有若干个操作口。

本实用新型的有益效果在于：