[实用新型]一种用于改善电池片EL污染的叠层皮带有效

专利信息
申请号: 201821283748.7 申请日: 2018-08-09
公开(公告)号: CN208761454U 公开(公告)日: 2019-04-19
发明(设计)人: 黎剑骑;孙涌涛 申请(专利权)人: 横店集团东磁股份有限公司
主分类号: B65G15/30 分类号: B65G15/30
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏
地址: 322118 *** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 皮带 皮带传动轮 基层 电池片 隔离层 接触层 隔离 叠层 污染 晶硅太阳电池 本实用新型 粉末状物质 长期运行 生产技术 高度差 单层 掉粉 硅片 磨损 配合
【说明书】:

实用新型属于晶硅太阳电池生产技术领域,尤其涉及一种用于改善电池片EL污染的叠层皮带。包括基层皮带、隔离层皮带、接触皮带和皮带传动轮,基层皮带与皮带传动轮配合,隔离皮带设置在基层皮带上,接触皮带设置在隔离皮带上。基层皮带与接触层带存在一定高度差以及距边度,且隔离层皮带能隔离基层皮带与接触层皮带的粉末状物质,从而能够避免因单层皮带与皮带传动轮长期运行中出现磨损掉粉直接污染硅片,从而减少EL下不良片的产生,达到降低生产成本的目的。

技术领域

本实用新型属于晶硅太阳电池生产技术领域,尤其涉及一种用于改善电池片EL污染的叠层皮带。

背景技术

在晶硅电池制造过程,包括制绒、扩散、刻蚀、PECVD镀膜、丝网印刷、烧结等工序。晶硅电池在各工序生产时,由于自动化程度越来越高,基本上靠机器搬运产品以及通过皮带传送产品,在机器搬运或皮带传送途中,若机器或皮带存在脏污,直接接触硅片,会污染硅片,导致产品外观性能不合格。其中在刻蚀、PECVD镀膜工序,硅片经过此两道工序时,传送过程中会采用大量的皮带进行传送。因硅片经过刻蚀工序背抛后,需要后道工序在接触硅片背面的传送皮带保持很好的工艺卫生,若传送皮带脏污或传送皮带磨损会导致硅片背面污染,这些脏污源会在晶硅电池中产生复合中心,降低扩散长度以及少子寿命,通过EL测试此区域显示为黑斑、黑点以及皮带印,从而影响电池片性能。

目前,硅片经过刻蚀工序背抛后,硅片在刻蚀下料传送时,传送方式采用皮带进行传送,而传送皮带为单一平面传送类型,此皮带长期传送运转时,与皮带传动轮长期摩擦,会导致皮带边缘磨损出现粉末状物质现象,当硅片背面接触此粉末状物质时,会附着在硅片背面,从而导致EL下呈黑点、黑斑污染。

实用新型内容

本实用新型旨在提供一种用于改善电池片EL污染的刻蚀叠层皮带,叠层皮带由三条宽度不同以及三条厚度不同的皮带叠加组成,其中第一皮带为基层皮带。第二条皮带为隔离层皮带。第三条皮带为接触层皮带。隔离层皮带位于基层皮带与接触层皮带中间,隔离层皮带是叠加在基层皮带之上,距基层皮带边缘的距离为5±2mm。接触层皮带叠加在隔离层皮带之上,叠加在隔离层皮带之上时,距隔离层皮带边缘的距离为3±1mm。使用该叠层皮带,使得硅片只与接触层皮带进行接触,当基层皮带磨损出现掉粉末状物质时,由于基层皮带与接触层带存在一定高度差以及距边度,且隔离层皮带能隔离基层皮带与接触层皮带的粉末状物质,从而能够避免因单层皮带与皮带传动轮长期运行中出现磨损掉粉直接污染硅片,从而减少EL下不良片的产生,达到降低生产成本的目的。

作为优选,所述的基层皮带宽度为1.5cm到2.5cm,所述的基层皮带厚度为1mm到2mm。

作为优选,所述的隔离层皮带宽度为1cm到2cm,所述的隔离层皮带厚度为1.5mm到2.5mm。

作为优选,所述的接触层皮带宽度为0.8cm到1.2cm,所述的接触层皮带厚度为0.5mm到1.5mm。

作为优选,所述的基层皮带上有与皮带传动轮配合的防尘槽。防尘槽可以将磨损产生的粉末状物质集中在槽内,而不会沿着边缘触碰到工件。

作为优选,所述的皮带传动轮宽度小于基层皮带宽度。

综上所述,本实用新型具有如下优点:基层皮带与接触层带存在一定高度差以及距边度,且隔离层皮带能隔离基层皮带与接触层皮带的粉末状物质,从而能够避免因单层皮带与皮带传动轮长期运行中出现磨损掉粉直接污染硅片,从而减少EL下不良片的产生,达到降低生产成本的目的。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是本实用新型的俯视图;

图3是本实用新型的截面结构示意图。

图示说明:1-工件,2-皮带传动轮,3-基层皮带,4-隔离层皮带,5-接触层皮带,6-防尘槽。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于横店集团东磁股份有限公司,未经横店集团东磁股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821283748.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top