[实用新型]一种遮挡结构和蒸发台有效
申请号: | 201821211390.7 | 申请日: | 2018-07-27 |
公开(公告)号: | CN208517519U | 公开(公告)日: | 2019-02-19 |
发明(设计)人: | 程国庆;耿智蔷 | 申请(专利权)人: | 吉林华微电子股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 葛松生 |
地址: | 132013 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 柱体部 挡圈 遮挡结构 蒸镀 蒸发台 蒸发舟 中空的 倾斜构造 四棱柱体 圆柱体形 蒸发过程 柱形结构 均匀性 拼合 蒸铝 柱体 半导体 邻近 轨道 | ||
1.一种遮挡结构,用于提高蒸发台蒸铝均匀性,所述蒸发台具有蒸发舟,其特征在于,所述遮挡结构包括:
第一挡圈,所述第一挡圈邻近所述蒸发舟布置,所述蒸发舟位于所述第一挡圈限定的区域内,所述第一挡圈为柱形结构,所述第一挡圈包括相互连接的第一柱体部和第二柱体部;
所述第一柱体部由具有第一缺口且中空的圆柱体形构成,所述第二柱体由具有第二缺口且中空的四棱柱体构成,所述第一柱体部和所述第二柱体部通过所述第一缺口和所述第二缺口的对接而拼合为一体。
2.根据权利要求1所述的遮挡结构,其特征在于,所述第一缺口沿所述圆柱体的轴向延伸至全部高度。
3.根据权利要求2所述的遮挡结构,其特征在于,所述第二缺口由所述四棱柱体的四个侧壁中的任意一个被全部去除而形成。
4.根据权利要求1所述的遮挡结构,其特征在于,在轴向,所述圆柱体由第一端面至第二端面延伸而成;所述第一端面为平面状,所述第二端面为阶梯状。
5.根据权利要求4所述的遮挡结构,其特征在于,所述第二端面具有两个台阶,且由第一次端面、第二次端面、第三次端面构成,所述第一次端面、所述第二次端面、所述第三次端面与所述第一端面之间的距离依次递减。
6.根据权利要求5所述的遮挡结构,其特征在于,所述第三次端面至所述第一端面之间的距离为18cm,所述第一次端面至所述第一端面之间的距离为30cm,所述第一次端面至所述第二次端面之间的距离为5cm,所述圆柱体的内壁直径为152cm、壁厚为1.5cm。
7.根据权利要求5或6所述的遮挡结构,其特征在于,所述四棱柱体与所述圆柱体同向延伸,且是由第三端面至第四端面延伸而成,所述第四端面为平面状且邻近所述第三次端面,所述第三端面为倾斜的平面,所述第三端面具有邻近所述第一端面的相邻部分,所述第三端面具有远离所述第一端面的相离部分,所述相邻部分到所述第四端面的距离大于所述相离部分到所述第四端面的距离。
8.根据权利要求7所述的遮挡结构,其特征在于,所述第三端面的倾斜角度为65℃。
9.根据权利要求7所述的遮挡结构,其特征在于,所述相邻部分到所述第四端面的距离为30cm,所述四棱柱体在所述圆柱体的径向的延伸长度为20cm。
10.一种蒸发台,其特征在于,包括如根据权利要求1~9中任一项所述的遮挡结构。
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