[实用新型]一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置

说明书

本实用新型公开了一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置，涉及半导体制造过程中制成工艺气体处理设备的技术领域，包括反应腔、后端水洗室、冷却塔和废水净水箱，废气进入前端净化装置后，在去除了废气中的酸性气体和粉尘颗粒后，剩下的废气进入反应室中反应，将废气中的有机物反应掉，接着，反应后的高温气体再经过后端水洗室和冷却塔的水洗喷淋和冷却降温，在达到排放标准后从出气口排出，而反应后产生的粉尘颗粒遇到水后掉落到后端水洗室的底部并顺着水流冲洗到废水净水箱中，再通过废水净水箱的过滤净化循环利用，整个装置结构合理，实用性强。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造过程中制成工艺气体处理设备的技术领域，具体涉及一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置。

背景技术

在半导体制造过程中既有二氧化硫、氮氧化物、含氟气体等有害废气外排，也有大量的粉尘伴随废气排放到环境中，造成环境空气污染。应用在半导体行业的传统废气处理设备在长时间运行中会因为废气中含有的粉尘导致废气处理设备反应腔堵塞，缩短设备的维护周期，影响工厂的产能，同时，在长时间运行中会因为废气中的酸性气体加速腐蚀设备的金属管路及连接厂务排风的金属管路，造成气体泄漏，导致安全事件发生。

中国专利公开号为CN107051092A公开了一种废气处理设备，包括：喷淋净化装置，包括塔体和喷淋机构，塔体具有容纳腔，塔体内沿底部到顶部依次设有旋流结构层和填料层以将容纳腔分隔为第一腔室、第二腔室和第三腔室，塔体的底部设有与第一腔室连通的进气口和出水口，塔体的顶部设有与第三腔室连通的出气口；喷淋机构包括第一喷淋组件和第二喷淋组件；气体净化装置，包括具有净化腔的本体，本体上设有与净化腔连通的进风口和出风口，进风口与出气口连通，净化腔包括等离子反应腔，等离子反应腔内设有等离子电场发生器。

日本专利公开号为CN107206314A公开了一种可以高效除去废气中的NOx的废气处理方法和废气处理装置。本实用新型的废气处理方法，其特征在于，其包括向含NOx的废气中供给含碱剂的粉末和臭氧对废气进行处理的工序，通过臭氧使NO氧化为NO2，并使碱剂或其热分解产物与NO2进行气固反应。此外，本实用新型的废气处理装置，其特征在于，其具备含NOx的废气流过的废气流路，向流过废气流路的废气中供给臭氧的臭氧供给部，以及向流过废气流路的废气中供给含碱剂的粉末的碱剂供给部，臭氧供给部设置为通过供给的臭氧使废气中的NO氧化为NO2，碱剂供给部设置为使供给的粉末中含有的碱剂或其热分解产物与NO2进行气固反应。

上述对比文件中所涉及的技术方案结构上过于复杂，维护成本较高，装置占用的空间也较大，不便应用于半导体制造过程中对制成工艺气体处理，因此，对应用于半导体制造过程中制成工艺气体处理设备需要重新进行更加合理的设计。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置，以解决现有技术中导致的上述多项缺陷。

一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置，包括反应腔、后端水洗室、冷却塔和废水净水箱，所述反应室包括反应腔、主进气法兰、辅进气法兰和辅进料法兰、出气法兰，所述主进气法兰和辅进气法兰分别焊接在反应腔的顶部中间和顶部两边，所述辅进料法兰焊接在反应腔的中部，所述出气法兰焊接在反应腔的底部并通过连接管道一和后端水洗室相连；所述后端水洗室包括后端水洗腔和喷头法兰一，所述喷头法兰一对称设于后端水洗腔的两侧并内设有喷头一，所述后端水洗腔的顶部左侧设有进气端并和连接管道二相连，顶部右边设有出气端并和冷却塔相连，所述后端水洗腔的底部设有排水法兰并通过连接管道二和废水净水箱连接；所述冷却塔的内部均布设有冷却板，所述冷却塔的外部中间和上部分别焊接有喷水法兰二和喷水法兰三，所述喷水法兰二和喷水法兰三内设有喷头二和喷头三，所述冷却塔的顶部水平设有出气口。

优选的，所述废水净水箱包括箱体和进水法兰，所述进水法兰焊接在箱体的顶部左边，所述进水法兰通过连接管道二和排水法兰相连，所述箱体的内部中间设有过滤板并通过固定架二竖直固定在箱体的内部，所述箱体的右侧下部设有出水法兰。