[实用新型]一种含酸性气体、粉尘颗粒的废气净化装置

说明书

本实用新型公开了一种含酸性气体、粉尘颗粒的废气净化装置，涉及半导体制造过程中制成工艺气体处理设备的技术领域，包括增压气泵、前端水洗室、反应腔、后端水洗室、冷却塔和废水净水箱，增压气泵的进气端和外接设备的废气出口连接，增压气泵的出气端和前端水洗室连接，废气进入前端水洗室后，去除了废气中的酸性气体和粉尘颗粒，剩下的废气进入反应室中反应，将废气中的有机物反应掉，接着，反应后的高温气体再经过后端水洗室和冷却塔的水洗喷淋和冷却降温，达到排放标准后从出气口排出，整个装置结构合理，实用性强。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造过程中制成工艺气体处理设备的技术领域，具体涉及一种含酸性气体、粉尘颗粒的废气净化装置。

背景技术

在半导体制造过程中既有二氧化硫、氮氧化物、含氟气体等有害废气外排，也有大量的粉尘伴随废气排放到环境中，造成环境空气污染。应用在半导体行业的传统废气处理设备在长时间运行中会因为废气中含有的粉尘导致废气处理设备反应腔堵塞，缩短设备的维护周期，影响工厂的产能，同时，在长时间运行中会因为废气中的酸性气体加速腐蚀设备的金属管路及连接厂务排风的金属管路，造成气体泄漏，导致安全事件发生。

中国专利公开号为CN107051092A公开了一种废气处理设备，包括：喷淋净化装置，包括塔体和喷淋机构，塔体具有容纳腔，塔体内沿底部到顶部依次设有旋流结构层和填料层以将容纳腔分隔为第一腔室、第二腔室和第三腔室，塔体的底部设有与第一腔室连通的进气口和出水口，塔体的顶部设有与第三腔室连通的出气口；喷淋机构包括第一喷淋组件和第二喷淋组件；气体净化装置，包括具有净化腔的本体，本体上设有与净化腔连通的进风口和出风口，进风口与出气口连通，净化腔包括等离子反应腔，等离子反应腔内设有等离子电场发生器。

中国专利公开号为CN1120740C公开了一种废气处理设备，具有圆锥状内筒11、喷嘴19以及吸附纸31，该圆锥状内筒11越往下方直径越小，该喷嘴19用于沿着圆锥状筒11的上部内周面并朝着以圆锥状筒11中心轴为中心旋转的方向喷射压缩空气。圆锥状内筒11在其上部形成取入废气的上部开口，在其下部形成用于排出通过内部的废气的构成物质的下部开口12。吸附纸31配置在从圆锥状内筒11排出的废气的构成物质的通过流路中。

上述对比文件中所涉及的技术方案结构上过于复杂，维护成本较高，装置占用的空间也较大，不便应用于半导体制造过程中对制成工艺气体处理，因此，对应用于半导体制造过程中制成工艺气体处理设备需要重新进行更加合理的设计。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种含酸性气体、粉尘颗粒的废气净化装置，以解决现有技术中导致的上述多项缺陷。

一种含酸性气体、粉尘颗粒的废气净化装置，包括增压气泵、前端水洗室、反应腔、后端水洗室、冷却塔和废水净水箱，所述增压气泵的进气端和外接设备的废气出口连接，所述增压气泵的出气端和前端水洗室连接，

所述前端水洗室包括前端水洗腔和进气法兰，所述进气法兰贯穿前端水洗腔的顶部左侧并和前端水洗腔焊接在一起，所述进气法兰的下端连接有出气罩，所述出气罩上均布设有出气孔并浸没于前端水洗腔内的水下，所述前端水洗腔的顶部右侧焊接有出气法兰一，所述出气法兰一通过连接管道一和反应室相连，所述前端水洗腔的右端焊接有喷水法兰一，所述喷水法兰一内设有喷头一并位于出气法兰一的正下方，所述前端水洗腔的底部焊接有排水法兰一；

所述反应室包括反应腔、主进气法兰、辅进气法兰和辅进料法兰、出气法兰二，所述主进气法兰和辅进气法兰分别焊接在反应腔的顶部中间和顶部两边，所述辅进料法兰焊接在反应腔的中部，所述出气法兰二焊接在反应腔的底部并通过连接管道二和后端水洗室相连；

所述后端水洗室包括后端水洗腔和喷头法兰二，所述喷头法兰二对称设于后端水洗腔的两侧并内设有喷头二，所述后端水洗腔的顶部左侧设有进气端并和连接管道二相连，顶部右边设有出气端并和冷却塔相连，所述后端水洗腔的底部设有排水法兰二；