[实用新型]用于处理基板的腔室

权利要求书

1.一种用于处理基板的腔室，其包括药液排出导向件，药液排出导向件设置于支撑基板的同时进行旋转的基板夹头的外侧，诱导药液从所述基板排出，所述用于处理基板的腔室包括：

冷却装置，其用于使得药液排出导向件冷却。

2.根据权利要求1所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述冷却装置是冷却剂供给部，冷却剂供给部通过冷却剂的流动向所述药液排出导向件表面供给冷气。

3.根据权利要求2所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述冷却装置由制冷循环形成，制冷循环包括压缩机、冷凝机、膨胀阀及蒸发器；

所述冷却剂供给部由所述蒸发器形成。

4.根据权利要求2所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述药液排出导向件形成有多个药液排出导向件，多个药液排出导向件用于形成多个回收杯，以便使得相互不同的药液分离排出；

设置多个冷却剂供给阀，以便能够选择性地向所述多个药液排出导向件供给所述冷却剂。

5.根据权利要求1所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述冷却装置是热电元件，热电元件在所述药液排出导向件表面引起吸热反应。

6.根据权利要求5所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述热电元件设置为，在所述药液排出导向件的内侧面引起吸热反应，在所述药液排出导向件的外侧面引起发热反应。

7.根据权利要求5所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述热电元件设置为，在所述药液排出导向件的外侧面引起吸热反应，在所述药液排出导向件的内侧面引起发热反应。

8.根据权利要求5所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述热电元件设置为，在所述药液排出导向件的上部引起吸热反应，在所述药液排出导向件的下部引起发热反应。

9.根据权利要求1所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述冷却装置是冷风供给部，冷风供给部向所述药液排出导向件表面供给冷风。

10.根据权利要求1所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述药液排出导向件设置有加热装置，加热装置用于使得所述基板周围的工艺环境维持高温。

11.根据权利要求10所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述加热装置是热媒介供给部，热媒介供给部通过热媒介的流动向所述药液排出导向件表面供给热气。

12.根据权利要求10所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述加热装置是电热器，电热器埋入于所述药液排出导向件内部并产生热气。

13.根据权利要求10所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述加热装置是暖风供给部，暖风供给部向所述药液排出导向件的表面供给暖风。

14.根据权利要求10所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述加热装置是暖风供给部，暖风供给部向形成于所述药液排出导向件内部的空气流路供给暖风。

15.根据权利要求1所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

所述药液排出导向件由聚四氟乙烯(PTFE)材料形成。

16.根据权利要求1所述的用于处理基板的腔室，其特征在于，

以多层的形式设置所述药液排出导向件，所述药液排出导向件与所述基板夹头隔开一定间距并围绕所述基板。