[实用新型]一种卧式镀膜机及镀膜设备有效
申请号: | 201820705268.9 | 申请日: | 2018-05-11 |
公开(公告)号: | CN208455058U | 公开(公告)日: | 2019-02-01 |
发明(设计)人: | 徐志淮 | 申请(专利权)人: | 昆山彰盛奈米科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 孙辉 |
地址: | 215331 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 卧式镀膜机 进气结构 容纳空间 出气结构 镀膜室 镀膜设备 导流板 本实用新型 镀膜效果 机械设备 流体通道 可旋转 流道 分隔 连通 贯穿 | ||
本实用新型涉及机械设备技术领域,具体而言,涉及一种卧式镀膜机及镀膜设备。一种卧式镀膜机,其包括主体、镀膜室、导流板、进气结构和多个出气结构。主体具备第一容纳空间;镀膜室可旋转地设置在第一容纳空间内;镀膜室上设置有多个贯穿的气孔;进气结构和出气结构相对地设置在主体上以连通第一容纳空间;导流板设置在第一容纳空间靠近是进气结构的一侧,以将从进气结构到出气结构的流体通道分隔为多个子流道。这样的卧式镀膜机镀膜效果好,具有显著的经济效益。
技术领域
本实用新型涉及机械设备技术领域,具体而言,涉及一种卧式镀膜机及镀膜设备。
背景技术
图1为现有技术的镀膜机10的结构示意图(图中曲线和箭头表示流体的流向)。
从图中可以看出,现有的真空镀膜机10具有侧面设置的入口11和底部设置的出口12。镀膜机10的镀膜因为其气体的流动,一般从侧面进入到并流动到镀膜室的中间然后由镀膜式的另一侧排出。
由于上述镀室内气流流动轨迹一般集中的入口11处,有向后壁中部汇集趋向,室内上、中、下和前、后部,反应气体分布的浓度是不均匀的,特别是在上,中,下部的差异是不能靠工件公/自转运动方式来补偿,这样沿高度方向的膜层的成分与厚薄会不一致,膜层会出现色差。
虽然调节导气管上的小孔的大小、分布可以改善一些膜层均匀性,但是由于气体进入镀膜机10的流动轨迹的问题,依然会存在镀膜不均匀的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种卧式镀膜机,其能够高效、快捷地完成对产品镀膜的任务,且这样的卧式镀膜机结构简单、操作方便,能够明显地卧式镀膜机镀膜的效率,且制造方便,有利于大规模流水线生产。
本实用新型的另一目的在于提供一种包括上述卧式镀膜机的镀膜设备,其能够高效快捷地完成对产品镀膜,且便于自动化控制,保障镀膜的质量。
本实用新型的实施例是这样实现的:
一种卧式镀膜机,其包括:
主体,主体具备第一容纳空间;
镀膜室,镀膜室可旋转地设置在第一容纳空间内;镀膜室上设置有多个贯穿的气孔;
进气结构和多个出气结构,进气结构和出气结构相对地设置在主体上以连通第一容纳空间;
导流板,导流板设置在第一容纳空间靠近是进气结构的一侧,以将从进气结构到出气结构的流体通道分隔为多个子流道。
现有的镀膜机的镀膜因为其气体的流动,一般从侧面进入到并流动到镀膜室的中间然后由镀膜式的另一侧排出。由于上述镀室内气流流动轨迹一般集中的入口处,有向后壁中部汇集趋向,室内上、中、下和前、后部,反应气体分布的浓度是不均匀的,特别是在上,中,下部的差异是不能靠工件公/自转运动方式来补偿,这样沿高度方向的膜层的成分与厚薄会不一致,膜层会出现色差。虽然调节导气管上的小孔的大小、分布可以改善一些膜层均匀性,但是由于气体进入镀膜机的流动轨迹的问题,依然会存在镀膜不均匀的问题。
据此,发明人发明了一种卧式镀膜机,其包括主体、镀膜室、导流板、进气结构和多个出气结构。进气结构和出气结构相对地设置在主体上以连通第一容纳空间;导流板设置在第一容纳空间靠近是进气结构的一侧,以将从进气结构到出气结构的流体通道分隔为多个子流道。如此,镀膜流体能够从进气结构进入,穿过镀膜室,进入镀膜室对镀膜室中的产品进行镀膜,再从镀膜室上的气孔流出,进而从出气结构排出主体外,如此完成镀膜的流程。这样的卧式镀膜机具有较好通过性,流体的轨迹是直接进入镀膜室或流出,改善了现有技术中流体轨迹聚集、出现紊流等情况影响镀膜效果。
综上,这样的卧式镀膜机设备结构简单、操作方便,能够明显地提高镀膜的效率,且制造方便,有利于大规模流水线生产。
在本实用新型的一种实施例中:
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的