[实用新型]一种用于异质结电池镀膜载体及膜层表面异物的清洁装置有效
| 申请号： | 201820699761.4 | 申请日： | 2018-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN208336159U | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 黄金;李高非;王继磊;王文;张永前;崔宁;鲍少娟;张娟;安建军 | 申请（专利权）人： | 晋能光伏技术有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 镇江京科专利商标代理有限公司 32107 | 代理人： | 夏哲华 |
| 地址： | 030600 山西省晋中市榆*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀膜 吹扫装置 异物 空心管 异质结电池 膜层表面 清洁装置 成膜 本实用新型 镀膜生产线 成膜腔体 电池生产 镀膜硅片 附着异物 硅片镀膜 生产过程 生产效率 丝网印刷 通气管路 异物附着 清洁 吹气孔 后表面 金属化 良品率 硅片 排布 卸片 装片 遮挡 粉尘 残留 印刷 | ||
1.一种用于异质结电池镀膜载体及膜层表面异物的清洁装置，其特征在于：包括用于输送镀膜载体（1）的镀膜生产线以及设置在镀膜生产线上料区的前吹扫装置（2）和设置在镀膜生产线下料区的后吹扫装置（3），所述前吹扫装置（2）和后吹扫装置（3）均包括有沿镀膜生产线宽度方向排布的空心管（4）以及与空心管连接并用于向空心管通入压缩气体的通气管路（5），各根所述空心管（4）上均排布的与镀膜载体呈30°-60°角度方向布置的吹气孔（6），所述镀膜载体（1）在装片前经过前吹扫装置（2）清洁镀膜载体上的碎片、粉尘及异物，所述镀膜载体（1）上的硅片镀膜后并在卸片前经过后吹扫装置（3）清洁镀膜后硅片的表面。
2.按照权利要求1所述的用于异质结电池镀膜载体及膜层表面异物的清洁装置，其特征在于：所述镀膜载体（1）在宽度方向上小于分别前吹扫装置以及后吹扫装置的长度。
3.按照权利要求1或2所述的用于异质结电池镀膜载体及膜层表面异物的清洁装置，其特征在于：所述前吹扫装置（2）和后吹扫装置（3）包括有位于镀膜载体上下方的空心管，位于上方的空心管距离镀膜载体的上表面距离为2-10cm,位于下方的空心管距离镀膜载体下表面距离2-10cm并且以载板为中心轴呈镜像分布。
4.按照权利要求3所述的用于异质结电池镀膜载体及膜层表面异物的清洁装置，其特征在于：所述前吹扫装置（2）和后吹扫装置（3）的空心管直径均为2-5cm，吹气孔（6）均布在空心管上，吹气孔的大小为1-2mm，间隔为0.5-3cm。
5.按照权利要求4所述的用于异质结电池镀膜载体及膜层表面异物的清洁装置，其特征在于：所述前吹扫装置（2）的压缩空气压强为0.3-0.7MPa，后吹扫装置（3）的压缩空气压强为0.05-0.2MPa。
6.按照权利要求5所述的用于异质结电池镀膜载体及膜层表面异物的清洁装置，其特征在于：所述空心管（4）的材质可选为PVC材料，通气管路（5）的材质为PU材料。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
