[实用新型]一种绝缘栅底场效应管有效
申请号: | 201820573621.2 | 申请日: | 2018-04-21 |
公开(公告)号: | CN208444842U | 公开(公告)日: | 2019-01-29 |
发明(设计)人: | 郑治龙;覃仕明 | 申请(专利权)人: | 郑治龙;覃仕明 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/10;H01L21/336 |
代理公司: | 张家界市慧诚商标专利事务所 43209 | 代理人: | 高红旺 |
地址: | 427000 湖南省张家*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 衬底 上绝缘层 源极 本实用新型 电子管 铝箔 绝缘栅 效应管 底场 漏极 绝缘层 表面设置 低音效果 下绝缘层 音响技术 直流电流 中音 晶体管 漏板 绝缘 失真 互换 | ||
本实用新型提供一种绝缘栅底场效应管,具有P型硅片衬底(1),在P型硅片衬底(1)中具有两个N+区(2),在位于N+区(2)一边的P型硅片衬底(1)表面设置有上绝缘层(3),两个N+区(2)分别有源极(4)和漏板(5)引出上绝缘层(3)外,其特征在于,在源极(4)与漏极(5)之间的上绝缘层(3)上引出栅极(6),在P型硅片衬底(6)另一面设置有下绝缘层(7),在下绝缘层(7)外表面设置铝箔(8),在铝箔(8)上引出绝缘底(9)。本实用新型可以实现源极、漏极互换,可以控制交、直流电流,用于音响技术方面,具有电子管较好的高中音效果,也具备晶体管的较好的低音效果,而且还具有比电子管的失真小等特点。
技术领域
本实用新型涉及半导体制造领域,特别是涉及一种绝缘栅场效应管。
背景技术
现在的场效应管一般要严格区分正负极加于源极漏极,即只能控制直流电流,不能控制交流电流。但一些解码器需要将控制信号与被控制信号完全分开,而且是用电压控制交流电流,但现有的场效应管不适合上述要求。中国专利公开的“一种沟槽型绝缘栅场效应管”(201110422748.7),包括 N 型外延层下形成有 P 型注入层,N 型外延层上部形成有沟槽,沟槽内形成有栅氧化层和多晶硅栅,沟槽两侧形成有 P 型阱和 N 型有源区,N 型有源区位于 P 阱上方,其中,N 型有源区中形成有圆形镂空结构,层间氧化介质形成于沟槽、圆形镂空结构和 N 型有源区上方,接触孔下方具有 P 型注入区,接触孔穿过层间氧化介质将 N 型有源区和 P型注入区连出。该绝缘栅场效应管不能用电压控制,不能解控制信号与被控制信号完全分开。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种绝缘栅场效应管,其是基于现有绝缘栅场效应管的延伸,可以实现源极、漏极互换,可以控制交、直流电流。
为实现上述目的,本实用新型的实施方案为:一种绝缘栅底场效应管,具有P型硅片衬底,在P型硅片衬底中具有两个N+区,在位于N+区一边的P型硅片衬底表面设置有上绝缘层,两个N+区分别有源极和漏极引出上绝缘层外,在源极与漏极之间的上绝缘层上引出栅极,在P型硅片衬底另一面设置有下绝缘层,在下绝缘层外表面设置铝箔,在铝箔上引出绝缘底。
具有上述结构的绝缘栅底场效应管为N沟道增强型的绝缘栅底场效应管。
作为另外一种实施方式,即N沟道耗尽型的绝缘栅底场效应管,其与N沟道增强型的绝缘栅底场效应管结构基本相同,只是在铝电极栅极与P型硅片衬底之间的上绝缘层中具有大量正离子。
作为优化的实施方式,所述上绝缘层和下绝缘层为SiO2或Si3N4。
本实用新型利用电压控制电流,在需要使用绝缘栅型场效应管的场合下,照样可以使用本绝缘栅底场效应管,可以实现源极、漏极互换,可以控制交、直流电流。其可以替代继电器(或接触器),且比它们的性能更好(无触点、无极性、可调性、功耗小等),特别是结构和电子管相似,用于音响技术方面,其具有电子管较好的高中音效果,也具备晶体管的较好的低音效果,而且还具有比电子管的失真小等特点。
附图说明
图1为N沟道增强型的绝缘栅底场效应管结构图。
图2为N沟道耗尽型的绝缘栅底场效应管结构图。
图3和图4是N沟道增强型绝缘栅底场效应管的工作原理图。
图5是N沟道耗尽型绝缘栅底场效应管的工作原理图。
图中,1-P型硅片衬底,2-N+区,3-上绝缘层,4-源极,5-漏极,6-栅极,7-下绝缘层,8-铝箔,9-绝缘底,10-正离子。
具体实施方式
下面结合实施例,详细说明本实用新型。
实施例1:
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