[实用新型]一种新型硅片清洗烘干装置

说明书

本实用新型公开了一种新型硅片清洗烘干装置，涉及电子设备领域，包括设备主体，所述设备主体包括烘干间和清洗间，所述烘干间位于清洗间的上方，所述烘干间和清洗间的上方均设置有开口，所述烘干间的两侧面对称设置有出风机和吸风机，所述清洗间的两侧面对称设置有出水装置和汲水装置，所述设备主体的上方设置有气压缸，所述气压缸的伸缩杆端部设置有内部中空的长方体状放置箱。本装置具有结构简单，设计巧妙，成本低的优点，解决了现有技术中的硅片清洗和烘干两个工序分开进行导致工作效率低，且反复夹取易损坏硅片的技术问题。

技术领域

本实用新型涉及电子设备技术领域，尤其涉及一种新型硅片清洗烘干装置。

背景技术

单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。由于太阳能具有清洁、环保、方便等诸多优势，近三十年来，太阳能利用技术在研究开发、商业化生产、市场开拓方面都获得了长足发展，成为世界快速、稳定发展的新兴产业之一。

在太阳能硅片生产过程中，需要利用清洗机对太阳能硅片进行清洗，接着清洗好的太阳能硅片进入分选机进行烘干，现有的清洗设备和烘干设备均为独立的个体，清洗完毕后需要人工操作夹出后再放入烘干装置内，硅片薄且脆，在反复夹取的过程中易损坏硅片，且工作效率低下，导致生产成本较高。

实用新型内容

基于以上技术问题，本实用新型提供了一种新型硅片清洗烘干装置，解决了现有技术中的硅片清洗和烘干两个工序分开进行导致工作效率低，且反复夹取易损坏硅片的技术问题。

为解决以上技术问题，本实用新型采用的技术方法如下：

一种新型硅片清洗烘干装置，包括设备主体，所述设备主体包括烘干间和清洗间，所述烘干间位于清洗间的上方，所述烘干间和清洗间的上方均设置有开口，所述烘干间的两侧面对称设置有出风机和吸风机，所述清洗间的两侧面对称设置有出水装置和汲水装置，所述设备主体的上方设置有气压缸，所述气压缸的伸缩杆端部设置有内部中空的长方体状放置箱。

进一步的，所述出水装置包括第一水箱、第一进水管、第一水泵以及第一出水管，所述第一进水管设置于第一水箱内部。

进一步的，所述第一出水管设置于所述清洗间内部，所述第一出水管从上到下依次均分成多个出水口。

进一步的，所述汲水装置包括第二水箱、第二进水管、第二水泵以及第二出水管。进一步的，所述第一出水管设置于所述清洗间内部，所述第一出水管从上到下依次均分成多个入水口。

进一步的，所述伸缩杆的圆周上设置有第一密封盖和第二密封盖，所述第一密封盖位于第二密封盖的上方。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是：

1.本实用新型将清洗装置和烘干装置结合起来，硅片在下方的清洗间内清洗完毕后通过气压缸上升后便可进行烘干，将清洗和烘干结合起来节省了大量的工作时间，且本装置结构简单，设计巧妙，成本低。

2.本实用新型中放置箱位于清洗间内时，第二密封盖可将清洗间的开口封住，此时的清洗间为一个密封的空间，出水装置和汲水装置相互作用，一方喷水、一方进水，在水流的作用下，硅片可被彻底的清洗赶紧。

3.本实用新型中在清洗装置的上方设置有烘干机，吸风机与出风机相互作用，使气体形成对流，加快了硅片的风干速度。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为放置箱的结构示意图；

图3为放置架的结构示意图。