[实用新型]一种新型蒸发镀膜治具有效

专利信息
申请号: 201820386905.0 申请日: 2018-03-21
公开(公告)号: CN208038549U 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 钱军 申请(专利权)人: 爱发科真空技术(苏州)有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/24
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 刘宪池
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 手臂 回转圆环 回转装置 轮子 镀锅 本实用新型 镀膜机真空 驱动机构 蒸发镀膜 连接件 治具 轨道 真空镀膜设备 螺栓 固定手臂 连接固定 平均分布 腔体内部 生产效率 水平旋转 悬挂安装 回转轴 自适应 上端 回转 可动 腔体 下端 体内 驱动
【说明书】:

本实用新型公开了一种新型蒸发镀膜治具,安装在镀膜机真空腔体内部上方,其包括轨道、连接件、回转装置和四个镀锅;轨道通过连接件悬挂安装在镀膜机真空腔体内上部;回转装置设置在轨道上,回转装置包括驱动机构、回转圆环、四个轮子和四个手臂,驱动机构位于回转圆环上方且驱动回转圆环水平旋转,四个手臂平均分布在回转圆环上,手臂上端通过螺栓与回转圆环连接固定,手臂下端设置有轮子;四个镀锅分别通过回转轴安装在四个轮子上,轮子回转时带动镀锅旋转;四个手臂中有一个手臂为可动自适应的调节手臂,其余三个手臂为固定手臂。通过上述方式,本实用新型能够在不增加真空镀膜设备腔体尺寸的条件下,大大增加单次产量、提高生产效率。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备领域,特别是涉及一种新型蒸发镀膜治具。

背景技术

工业上常用真空镀膜设备进行蒸发镀膜,以完成基板表面所需要沉积的膜层。真空蒸发镀膜需要一定的真空条件和蒸发条件,蒸发镀膜技术在物理气相沉积技术中发展较早,且真空蒸发镀膜设备与工艺相对比较简单,即可沉积非常纯净的膜层,又可制备具有特定结构和性质的膜层,所以真空镀膜设备在半导体、功率器件、LED等行业中被广泛使用。

目前,在真空镀膜设备中装载基板的镀膜治具普遍采用的是三个镀锅。采用该种镀膜治具的真空镀膜设备的单次产量不高。在国家倡导节能减排的背景下,如何有效的提高单次产量是我们研究的方向。

专利号为CN205662594U的一种新型的镀膜治具,锥形的治具装样板上均匀地分布着一定大小的材料放置孔,治具装样板的四周安装有向外侧形成一定夹角的挡板,锥形的治具装样板顶角上有向上的连接杆Ⅰ,连接杆Ⅰ的上端固定有夹板,夹板与夹具夹件间通过螺栓可拆卸,夹具夹件通过连接杆Ⅱ可与真空镀膜设备腔体紧固相连。该镀膜治具可以在不改变真空镀膜治具腔体体积的情况下,尽可能多的进行多件材料的同时镀膜;并且通过安装挡板,尽量使得蒸发的待镀膜料汇聚在材料的下方面,减少甚至避免待镀材料的污染,提高产品质量;虽然该镀膜治具可以尽可能的进行多件材料的同时镀膜,但实际提高的单次产量不明显。

专利号为CN 204198846U的一种可自转公转的仿行星式镀膜治具,镀膜治具安装在镀膜机腔内部上方,镀膜治具主要包括治具本体、公转系统和自转系统,治具本体包括三个治具盘,治具盘为伞形,伞形治具盘中部的尖端处设置有连接柱;该可自转公转的仿行星式镀膜治具利用行星运动的原理,根据行星自转和公转的运动规律使治具盘在镀膜机腔内实现独立自转并整体公转的效果,可以达到镀膜时产品表面的保护膜层均匀沉积的目的,且不仅镀膜产品的主体部分可均匀镀膜,镀膜产品的边缘及棱角亦可达到最佳的镀膜效果,实现整体镀膜的均匀性;但其并不能提高基板的单次产量。

所以,为解决上述问题需要设计出一种可以明显提高单次产量的新型蒸发镀膜治具。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种新型蒸发镀膜治具,能够在不增加真空镀膜设备腔体尺寸的条件下,通过改变镀锅的数量以及对应回转治具的结构,从而大大增加单次产量、提高生产效率。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种新型蒸发镀膜治具,安装在镀膜机真空腔体内部上方,其包括:轨道、连接件、回转装置和四个镀锅;所述轨道通过所述连接件悬挂安装在镀膜机真空腔体内上部;所述回转装置设置在所述轨道上,回转装置包括驱动机构、回转圆环、四个轮子和四个手臂,驱动机构位于回转圆环上方且驱动回转圆环水平旋转,四个手臂平均分布在回转圆环上,手臂上端与回转圆环连接,手臂下端设置有轮子;四个镀锅分别通过回转轴安装在四个轮子上,轮子回转时带动镀锅旋转;所述四个手臂中有一个手臂为可动自适应的调节手臂,其余三个手臂为固定手臂,调节手臂上端与所述回转圆环可调连接,固定手臂上端与回转圆环固定连接。

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