[发明专利]一种实时监测显影过程的方法

说明书

本发明提供了一种实时监测显影过程的方法，该方法包括：确定光电接收器的位置；当潜像光栅开始显影时，用激光照射潜像光栅，用光电接收器接收潜像光栅的衍射光信号；根据该衍射光信号获取衍射光的强弱变化曲线；最后根据所述曲线确定显影截止点。该方法通过观察显示器上衍射光的强弱变化曲线就能够直观地了解显影的进度，当曲线中的衍射光强度下降至刚趋于平缓时，即为显影截止点，此时停止显影，将有利于得到高质量的全息光栅掩模。该方法简单、可操作性强、重复性高，将其应用于研制高质量的全息光栅掩模时，能够提高研究效率，并得到较好的全息光栅掩模。

技术领域

本发明涉及光谱技术领域，更具体而言，涉及一种在全息光栅制作过程中实时监测显影过程的方法。

背景技术

在全息光栅制作工艺中，把经过曝光的潜像光栅放入碱性溶液中进行蚀刻，是光刻胶中的潜像转化成为具有浮雕图案，这个过程就是显影。显影是全息光栅刻槽形成的最后一道工艺步骤，是需要控制的重要工艺参数之一，显影时间不足或显影时间多长都不能得到理想的光栅刻槽。传统方法是采用固定的曝光量，通过大量实验反复修正，最后获得最佳工艺条件。由于影响全息光栅质量的工艺条件很多，其中许多条件在实验过程中还会波动，导致实验结果难以判断和控制，所以采用这种传统的方法需要的实验工作量大，研究周期长，最终往往还得不到质量良好的全息光栅。因此，为了研制高质量的全息光栅掩模、提高研究效率、最佳工艺条件的可操作性和重复性，需要对对全息光栅掩模制作的主要工艺步骤之一的显影技术进行实时监测，优化显影终止时间。

发明内容

为了克服上述已有技术存在的缺陷，本发明提出了一种在全息光栅制作过程中能够简便可行地实时监测显影过程的技术方案。

本发明的目的可通过以下技术措施来实现：

本发明提供了一种实时监测显影过程的方法，所述方法包括：

确定光电接收器的位置；

当潜像光栅开始显影时，用激光照射所述潜像光栅，用所述光电接收器接收所述潜像光栅的衍射光信号；

根据所述衍射光信号获取衍射光的强弱变化曲线；

根据所述曲线确定显影截止点。

优选地，实施所述方法的实时监测装置包括：显影模块、衍射光接收模块和监测模块，所述显影模块包括显影罐、以及设于所述显影罐上的光栅定位组件，所述光栅定位组件用于将光栅固定在显影罐中进行显影；

所述衍射光接收模块包括激光器和光电接收器，所述激光器用于发出激光照射所述光栅，所述光电接收器用于接收激光照射所述光栅后从所述光栅衍射出的光信号；所述监测模块包括与所述光电接收器连接的数据处理器、和与所述数据处理器连接的显示器，所述光电接收器接收到的光信号经过所述数据处理器处理后在所述显示器上显示为衍射光的强弱变化曲线。

优选地，所述确定光电接收器的位置包括：

将标准光栅置于所述光栅定位组件上；

用激光照射所述标准光栅，在所述标准光栅的衍射光信号方向放置所述光电接收器。

优选地，所述光栅定位组件包括滑轨单元、用于将所述滑轨单元固定在所述显影罐内的第一固定机构、以及滑块单元；

所述滑轨单元包括：两条平行间隔设置的滑轨、以及用于支撑所述两条滑轨的支撑机构；所述滑块单元包括：与所述两条滑轨滑动配合的滑块、以及用于将光栅固定在所述滑块上的第二固定机构，所述第二固定机构设于所述滑块上。

优选地，所述将标准光栅置于所述光栅定位组件上包括：通过所述第二固定机构将所述标准光栅固定于所述滑块上，然后将所述滑块置于所述滑轨中；以及