[发明专利]半导体单晶炉腔体的焊接工艺有效
申请号: | 201811598499.5 | 申请日: | 2018-12-26 |
公开(公告)号: | CN109623106B | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 潘燕萍 | 申请(专利权)人: | 常州市乐萌压力容器有限公司 |
主分类号: | B23K9/167 | 分类号: | B23K9/167;B23K9/235;B23K9/32 |
代理公司: | 常州市华信天成专利代理事务所(普通合伙) 32294 | 代理人: | 何学成 |
地址: | 213000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 单晶炉腔体 焊接 工艺 | ||
本发明专利属于焊接技术领域,具体涉及半导体单晶炉腔体的焊接工艺。该工艺主要包括焊前预处理、焊条选择、预留变形量、外层底部多点对称焊、外层内部多层焊、外层内部焊道应力消除、外层表面焊接、内侧清根、内层内部多层焊、内层内部焊道应力消除、内层表面焊接、焊道表面处理等步骤,所述的焊接时定位点不少于两个。该焊接工艺能提高单晶炉炉室腔体的抗腐蚀性能,改善密闭性,单晶炉腔体不易变形,提高整台单晶炉设备的可靠性。
技术领域
本发明专利属于焊接技术领域,具体涉及半导体单晶炉腔体的焊接工艺。
背景技术
目前生产硅单晶的工艺种类繁多,但大多数硅单晶的生长方法都是在充有惰性气体的密闭炉室内,采用石墨电阻加热的方法。近年来对国内硅单晶材料生产的实践调查,在对单晶炉实用寿命和可靠性的影响上,炉室腔体的封闭性已经超过机械电器运行平稳性和其他技术指标,现有技术中单晶炉腔体采用不锈钢焊接工艺仍需提高,提高单晶炉腔体的抗腐蚀性能和密闭性。
发明内容
本发明专利要解决的技术问题是:针对上述缺陷,本发明提出一种半导体单晶炉腔体的焊接工艺,提高单晶炉炉室腔体的抗腐蚀性能,改善密闭性,单晶炉腔体不易变形,提高整台单晶炉设备的可靠性。
本发明专利解决其技术问题采用的技术方案如下:半导体单晶炉腔体的焊接工艺,单晶炉腔体材料为奥氏体不锈钢,其工艺步骤如下:
(1)焊前预处理:待焊部位采用有机溶剂擦拭表面的油污,擦净后使用刮刀清理表面至表面露出金属光泽;对焊接部位铺设上一层加热器进行预热;
(2)焊条选择:采用与单晶炉腔体材料晶相组分相似的奥氏体为焊条,将焊条设置在自动送料装置上;
(3)预留变形量:焊接处设置有防变形卡具;
(4)外层底部多点对称焊:采用自动焊接装置对单晶炉待焊区域多点定位,自动送料装置将焊条分别同步贴合在焊接部位,采用钨极惰性气体保护焊焊接;
(5)外层内部多层焊:采用自动焊接装置对单晶炉待焊区域多点定位,自动送料装置将焊条分别同步贴合在焊接部位,采用钨极氩弧焊焊接;
(6)外层内部焊道应力消除:采用头部带小圆弧的工具锤击焊道,锤击方向为远离焊道部位的方向;
(7)外层表面焊接:重复步骤5;
(8)内侧清根:焊缝采用电动砂轮对内侧焊道处理,保证焊缝根部能够熔透;
(8)内层内部多层焊:采用自动焊接装置对单晶炉待焊区域定位,自动送料装置将焊条同步贴合在焊接部位,采用钨极氩弧焊焊接;
(9)内层内部焊道应力消除:采用工具锤击焊缝,锤击方向为远离焊道部位;
(10)内层表面焊接:重复步骤8;
(11)焊道表面处理:焊道表面出现氧化皮,采用不锈钢酸洗法处理,焊道表面去除氧化皮并钝化后,抛光。
进一步的,所述的焊前预处理中,焊接部位露出金属光泽后四小时内及时焊接。
进一步的,所述的自动焊接时定位点不少于两个。
进一步的,所述的外层底部采用钨极惰性气体保护焊时,每焊接一段距离后,间歇几秒后继续焊接直至焊接部位焊接完全。
进一步的,所述的锤击工具头部具有圆弧弧度。
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