[发明专利]蒸镀装置

说明书

提供一种能够将基板和掩模的相对位置的精度提高的蒸镀装置。具备：保持机构，其在收纳有蒸镀源(51)的蒸镀室(50)内以使非透射性的基板(W)的表面(WF)朝向蒸镀源(51)的状态保持基板(W)，并且在蒸镀源(51)与基板(W)之间保持蒸镀掩模(M)；拍摄部，其从基板(W)的与蒸镀掩模(M)侧相反的一侧对蒸镀室(50)内的基板(W)和蒸镀掩模(M)进行拍摄；上部结构体，其连接到保持机构及拍摄部；下部结构体，其支承上部结构体；以及连接部(59)，其被上部结构体和下部结构体夹着，对上部结构体和下部结构体进行连接，连接部(59)具备抑制振动从下部结构体向上部结构体传递的防振功能。

技术领域

本发明涉及具备位置检测部的蒸镀装置，该位置检测部检测基板的位置。

背景技术

蒸镀装置在基板的成膜面与蒸镀源之间配置蒸镀掩模，将图形形成于基板的成膜面，该图形为追从蒸镀掩模的开口的形状。蒸镀装置根据作为基板的对准标记的基板标记将基板的位置算出。蒸镀装置对基板的位置、蒸镀掩模的位置进行调整，以使得计算出的基板的位置和蒸镀掩模的位置一致(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-1947号公报

发明内容

发明要解决的课题

在被搬入到蒸镀装置的基板与使用于蒸镀的蒸镀用掩模之间被要求较高的位置精度。例如，在形成使用于有机EL装置、有机半导体装置的蒸镀图形的蒸镀装置中，在上述的基板和蒸镀掩模的相对位置上所容许的尺寸的误差也不满10微米。另一方面，在蒸镀时形成真空空间或者搬送多个基板的蒸镀装置中，用于形成真空的泵的振动、用于搬送基板的电动机的振动等各种振动在进行基板的处理时产生。向保持基板、蒸镀掩模的机构传递的这些振动成为使基板和蒸镀掩模的相对位置产生偏差的主要原因。

本发明以提供能够将基板和蒸镀掩模的相对位置的精度提高的蒸镀装置为目的。

用于解决课题的方案

一个方式是蒸镀装置。蒸镀装置具备：保持机构，其在收纳有蒸镀源的蒸镀室内以使非透射性的基板的表面朝向所述蒸镀源的状态保持所述基板，并且在所述蒸镀源与所述基板之间保持蒸镀掩模；拍摄部，其从所述基板的与蒸镀掩模侧相反的一侧对所述蒸镀室内的所述基板和所述蒸镀掩模进行拍摄；上部结构体，其连接到所述保持机构及所述拍摄部；下部结构体，其支承所述上部结构体；以及连接部，其被所述上部结构体和所述下部结构体夹着，对所述上部结构体和所述下部结构体进行连接，所述连接部具备抑制振动从所述下部结构体向所述上部结构体传递的防振功能。

根据上述蒸镀装置，对进行基板的保持和蒸镀掩模的保持的保持机构进行支承的上部结构体通过具有防振功能的连接部连接到下部结构体。结果是，能够抑制在下部结构体产生的振动传递到基板和蒸镀掩模。故此，能够抑制基板和蒸镀掩模的相对位置及这些和拍摄部的相对位置由于上述振动的传递而产生偏差。

在上述蒸镀装置中，所述下部结构体也可以是所述蒸镀室具备的真空槽。根据该蒸镀装置，能够抑制在蒸镀室中产生的泵、电动机的振动传递到上部结构体。

在上述蒸镀装置中，所述保持机构也可以具备旋转机构和升降机构，该旋转机构使所述基板和所述蒸镀掩模在所述基板的圆周方向旋转，该升降机构使所述基板和所述蒸镀掩模各自独立地升降。根据该蒸镀装置，能够将下部结构体中的振动和基板的旋转、升降隔离，另外，也能够将下部结构体中的振动和蒸镀掩模的旋转、升降隔离。因此，能够抑制进行旋转、升降的基板的位置的精度由于下部结构体中的振动而降低、以及进行旋转、升降的蒸镀掩模的位置精度由于下部结构体中的振动而降低。

在上述蒸镀装置中，也可以为，所述连接部是所述蒸镀装置具备的多个连接部中的一个，所述多个连接部各自在所述基板的圆周方向分散。根据该蒸镀装置，因为连接部在基板的圆周方向分散，所以能够利用多个连接部抑制在基板的面方向产生的振动的传递。