[发明专利]显示面板的蒸镀结构在审

专利信息
申请号: 201811550408.0 申请日: 2018-12-18
公开(公告)号: CN109468585A 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 赵凯祥;刘开欣 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 显示面板 蒸镀 掩膜板 磁铁 支撑柱 发光层结构 厚度均一 区域增加 不良率 吸附力 蒸镀源 形变 支撑
【说明书】:

发明公开了一种显示面板的蒸镀结构,包括显示面板;若干磁铁,分布于所述显示面板的一侧;一掩膜板,设于所述显示面板的另一侧;若干支撑柱,支撑于所述掩膜板与所述显示面板之间,且每一支撑柱对应于其中一磁铁;蒸镀源,具有一蒸镀侧,朝向所述掩膜板。本发明的显示面板的蒸镀结构,通过在掩膜板与磁铁的对应区域增加若干支撑柱,有效防止了因磁铁产生的吸附力分布不均带来的形变问题,确保了蒸镀后各发光层结构的厚度均一,降低了显示面板显示的不良率。

技术领域

本发明涉及显示面板蒸镀设备等领域,具体为一种显示面板的蒸镀结构。

背景技术

在显示面板的制程中,需要采用蒸镀工艺形成对应的功能膜层。而蒸镀工艺一般在真空中通过电流加热,电子束轰击加热和激光加热等方法,使被蒸材料蒸发成原子或分子,它们随即以较大的自由程作直线运动,碰撞基片表面而凝结,形成薄膜。而在蒸镀时,需要用到掩膜板对非成膜区进行遮掩,以能够在指定的位置形成各个功能膜层。

现有的蒸镀设备,在蒸镀显示面板时,蒸镀设备中的磁铁会对掩膜板产生吸附力从而吸附掩膜板。而现有蒸镀设备中的磁铁只能做成长条状,当磁铁通电后,靠近磁铁附近位置的磁场强度较强,远离磁铁位置的磁场强度较弱,因此会造成蒸镀设备中的掩膜板被磁铁吸附时的吸附力分布不均的情况,掩膜板因吸附力不均容易形变,最终影响蒸镀后功能膜层的膜厚的均一性,造成显示面板的显示不良。

发明内容

为了解决上述技术问题:本发明提供一种显示面板的蒸镀结构,通过在掩膜板与显示面板之间增加支撑柱,以防止因磁铁产生的吸附力分布不均带来的掩膜板形变的现象。

解决上述问题的技术方案是:本发明提供一种显示面板的蒸镀结构,包括显示面板;若干磁铁,分布于所述显示面板的一侧;一掩膜板,设于所述显示面板的另一侧;若干支撑柱,支撑于所述掩膜板与所述显示面板之间,且每一支撑柱对应于其中一磁铁;蒸镀源,具有一蒸镀侧,朝向所述掩膜板。

在本发明一实施例中,所述的显示面板的蒸镀结构还包括一底板,所述磁铁设于所述底板的一侧,所述显示面板设于所述底板的另一侧;所述显示面板包括玻璃基板,设于所述底板上;薄膜晶体管结构层,设于所述玻璃基板上;像素限定层,设于所述薄膜晶体管结构层上,所述像素限定层设有开孔;间隔柱,设于所述像素限定层上;所述掩膜板设于所述间隔柱上,所述支撑柱与所述间隔柱同层设置。

在本发明一实施例中,所述掩膜板具有若干透孔区和非透孔区,每一透孔区对应其中一开孔。

在本发明一实施例中,所述透孔区成阵列排布,形成若干所述透孔区的行和列;所述支撑柱也成阵列排布且位于所述非透孔区,形成所述支撑柱的行和列,所述支撑柱的行平行于所述透孔区的行,所述支撑柱的列平行于所述透孔区的列。

在本发明一实施例中,在所述支撑柱的行所在方向或列所在方向,所述支撑柱与所述透孔区交错设置。

在本发明一实施例中,所述磁铁为长条形,每一行或者每一列的支撑柱对应于一条磁铁。

在本发明一实施例中,每一开孔内形成有发光层结构,所述发光层结构为红色发光层结构、绿色发光层结构和蓝色发光层结构中的一种。

在本发明一实施例中,每一透孔区对应于每一红色发光层结构,所述非透孔区对应于所述绿色发光层结构和所述蓝色发光层结构;或者每一透孔区对应于每一蓝色发光层结构,所述非透孔区对应于所述绿色发光层结构和所述红色发光层结构;或者每一透孔区对应于每一绿色发光层结构,所述非透孔区对应于所述红色发光层结构和所述蓝色发光层结构。

在本发明一实施例中,所述透孔区的形状、尺寸匹配于其所对应的所述开孔的形状、尺寸。

在本发明一实施例中,所述支撑柱为棱台形的柱状结构。

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