[发明专利]一种基板及制备方法有效
| 申请号： | 201811510414.3 | 申请日： | 2018-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN109656047B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 张军 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 制备 方法 | ||
1.一种基板，其特征在于，所述基板包括：
衬底基板；
设置在所述衬底基板上的像素阵列单元框；
设置在所述衬底基板上且自下而上依次设置的光学膜、彩色滤光片和氧化铟锡薄膜；
所述光学膜的材料包括SiOx或SiNx和SiOx的混合材料；且当所述光学膜为SiO2光学膜时，所述SiO2光学膜的厚度为
2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述像素阵列单元框设置在所述光学膜和所述衬底基板之间。
3.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述像素阵列单元框设置在所述氧化铟锡薄膜之上。
4.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述像素阵列单元框与所述光学膜之间还设置有RGB色阻像素层。
5.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述基板还包括支撑柱。
6.根据权利要求5所述的基板，其特征在于，所述支撑柱设置在所述氧化铟锡薄膜上。
7.一种基板的制作方法，其特征在于，包括：
步骤S100，通过黑色矩阵工艺制程，在衬底基板上制备出像素阵列单元框，
步骤S110，在步骤S100基础上制备出一定厚度的SiOx或者SiOx和SiNx结构的光学膜，并在所述光学膜上制备出彩色滤光片和氧化铟锡薄膜，其中所述光学膜为SiO2光学膜时，所述SiO2光学膜的厚度为
步骤S120，在步骤S110基础上制备主副支撑柱。
8.根据权利要求7所述的基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S100与所述步骤S110之间还包括：
步骤S200，在步骤S100的基础上制备出RGB色阻像素层。
9.根据权利要求7所述的基板制作方法，其特征在于，所述步骤S100与所述步骤S110的制备顺序可互换。
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