[发明专利]铜铟镓硒薄膜太阳能电池及其制备方法在审
申请号: | 201811425943.3 | 申请日: | 2018-11-27 |
公开(公告)号: | CN111223758A | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
发明(设计)人: | 张冲;王雪戈 | 申请(专利权)人: | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L31/18;H01L31/032;H01L31/046 |
代理公司: | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人: | 王刚 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铜铟镓硒 薄膜 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括:
提供衬底基板,在所述衬底基板上制备背电极层;
在所述背电极层上制备光吸收层;
将碱金属氟化物与铟、硒进行共蒸发,从而在所述光吸收层的表面沉积掺杂层;
在所述掺杂层上依次制备缓冲层、窗口层和顶电极层。
2.根据权利要求1所述的铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,将碱金属氟化物与铟、硒进行共蒸发,从而在所述光吸收层的表面沉积掺杂层,包括:
控制所述衬底基板的温度为300-500℃,将碱金属氟化物与铟、硒共蒸发至所述光吸收层的表面,从而在所述光吸收层的表面沉积10-50nm厚度的掺杂层。
3.根据权利要求2所述的铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述共蒸发的时间为1-3分钟。
4.根据权利要求2所述的铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,在将碱金属氟化物与铟、硒进行共蒸发之后,还包括:待所述衬底基板冷却后,采用去离子水、稀盐酸或者氨水冲洗所述掺杂层的表面。
5.根据权利要求1所述的铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述碱金属选自锂、钠、钾、铷和铯中的一种或几种。
6.根据权利要求1所述的铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,在所述背电极层上制备光吸收层,包括:
共蒸发铟、镓和硒至所述背电极层的表面,从而在所述背电极层的表面沉积预置层;
共蒸发铜和硒至所述预置层的表面,从而在所述预置层的表面沉积富铜层;
共蒸发铟、镓和硒至所述富铜层的表面,从而在所述富铜层的表面沉积表面层。
7.根据权利要求6所述的铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,在沉积预置层的过程中,控制所述衬底基板的温度为350-450℃,所述预置层的厚度为500-1000nm。
8.根据权利要求6所述的铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,在沉积富铜层的过程中,控制所述衬底基板的温度为500-750℃,所述富铜层的厚度为500-1000nm。
9.根据权利要求6所述的铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,在沉积表面层的过程中,控制所述衬底基板的温度为500-750℃,所述表面层的厚度为200-500nm。
10.一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池,其特征在于,根据权利要求1-9中任一项所述的铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法制备得到。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造