[发明专利]一种防眩光扩散膜的制作方法有效

专利信息
申请号: 201811342057.4 申请日: 2018-11-12
公开(公告)号: CN111169056B 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 周小红;刘麟跃;基亮亮 申请(专利权)人: 苏州维业达触控科技有限公司
主分类号: B29D7/01 分类号: B29D7/01;G02B5/02;G03F7/00;G03F7/40
代理公司: 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 代理人: 杨波
地址: 215026 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 眩光 扩散 制作方法
【权利要求书】:

1.一种防眩光扩散膜的制作方法,其特征在于,该方法具体步骤包括:

S1:提供一具有微纳级网格凹槽和球面形微纳级凸起结构的防眩光模具,所述球面形微纳级凸起结构经烘烤固化形成;其中,所述微纳级凸起结构由所述微纳级网格凹槽隔离形成;

S2:提供一支撑层;

S3:在所述支撑层上涂布一UV胶层;

S4:使用所述防眩光模具对所述UV胶层进行UV压印,UV压印后的所述UV胶层形成微纳级的防眩光结构层;

其中,制作所述防眩光模具的具体方法包括:

S101:提供一玻璃基板;

S102:在所述玻璃基板上涂布一光刻胶层;

S103:将所述光刻胶层制成由所述微纳级网格凹槽隔离的若干所述球面形微纳级凸起结构;

S104:将所述球面形微纳级凸起结构通过UV转印或金属生长转移至模具,获得具有所述微纳级网格凹槽的防眩光模具。

2.如权利要求1所述的防眩光扩散膜的制作方法,其特征在于,在步骤S103中,所述将所述光刻胶层制成由网格隔离的若干球面形微纳级凸起结构,包括:曝光显影所述光刻胶层,形成由所述微纳级网格凹槽隔离的若干微纳级凸起结构;烘烤固化所述微纳级凸起结构,形成若干所述球面形微纳级凸起结构。

3.如权利要求2所述的防眩光扩散膜的制作方法,其特征在于,所述曝光显影方式为:按照所需图形对所述光刻胶层进行曝光,将所述光刻胶层中显影的光刻胶蚀刻掉,形成由所述微纳级网格凹槽隔离的所述微纳级凸起结构。

4.如权利要求1所述的防眩光扩散膜的制作方法,其特征在于,所述烘烤固化方式为:将所述微纳级凸起结构和所述玻璃基板一起置于130-160℃的烘箱中烘烤20-50分钟,形成所述球面形微纳级凸起结构。

5.如权利要求1所述的防眩光扩散膜的制作方法,其特征在于,所述防眩光结构层包括由若干凹陷单元分成的若干微纳级防眩光单元,所述防眩光单元为球面形结构,所述凹陷单元为呈周期性排布的规则图形。

6.如权利要求5所述的防眩光扩散膜的制作方法,其特征在于,所述防眩光单元高度为12-27μm,所述凹陷单元深度为12-27μm,宽度为3-10μm。

7.如权利要求1或5所述的防眩光扩散膜的制作方法,其特征在于,所述防眩光结构层厚度为15-30μm。

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