[发明专利]一种改善管式PECVD色差降级的镀膜方法

说明书

本发明公开了一种改善管式PECVD色差降级的镀膜方法，包括以下步骤，步骤一，分色：对所产生的色差片进行分色，以目标颜色的膜厚为基准，将低于或高于该准色差片进行分类，分成低于该基准的返工片和低于该基准的降级片；步骤二，测试：对于颜色不达标的降级片通过膜厚测试，确定与基准范围的差距。该改善管式PECVD色差降级的镀膜方法极大地降低了镀膜色差的返工比例，提高了整体合格率，同时也降低了返工成本。

技术领域：

本发明涉及太阳能电池领域，具体讲是一种改善管式PECVD色差降级的镀膜方法。

背景技术：

在太阳能光伏电池片的生产制造过程中，普遍采用具有良好减反射和表面钝化的氮化硅膜。在电池片生产过程中，通常采用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)方式进行镀氮化硅膜，分为板式PECVD和管式PECVD，板式PECVD镀膜均匀性较好，但氮化硅膜致密性较管式PECVD差，管式PECVD在电池片电性能上有相对优势，有较高的光电转换效率，目前氮化硅膜的沉积大部分使用管式PECVD,但是管式PECVD对膜的均匀性有一定的影响，通常有较大比例的色差降级。一般出现色差片等外观颜色不良品就需要返工处理，使用高浓度氢氟酸去除氮化硅膜，然后再重新制绒、扩散、刻蚀，再镀氮化硅膜，返工比较麻烦，而且返工均会造成硅片损伤，也会增加硅片的碎片率，提高电池片的生产成本。

发明内容：

本发明所要解决的技术问题是，提供一种降低镀膜色差的返工比例，提高整体合格率，同时也降低返工成本的改善管式PECVD色差降级的镀膜方法。

本发明的技术解决方案是，提供一种改善管式PECVD色差降级的镀膜方法，包括以下步骤，

步骤一，分色：对所产生的色差片进行分色，以目标颜色的膜厚为基准，将低于或高于该准色差片进行分类，分成低于该基准的返工片和低于该基准的降级片；

步骤二，测试：对于颜色不达标的降级片通过膜厚测试，确定与基准范围的差距；

步骤三，调整膜厚：根据膜厚差距，在机台上将膜厚不达标的降级片重新进管式PECVD进行补镀工艺，在补镀工艺运行至等离子发射步时，根据膜厚和镀膜时间关系，调整镀膜时间来达到相差的膜厚，从而使色差降级片到达标准膜厚。

采用以上方案后与现有技术相比，本发明具有以下优点：极大地降低了镀膜色差的返工比例，提高了整体合格率，同时也降低了返工成本。

附图说明：

图1为本发明实施例的流程图。

具体实施方式：

下面结合附图就具体实施方式对本发明作进一步说明：

如图1所示，一种改善管式PECVD色差降级的镀膜方法，包括以下步骤，

步骤一，分色：对所产生的色差片进行分色，以目标颜色的膜厚为基准，将低于或高于该准色差片进行分类，分成低于该基准的返工片和低于该基准的降级片；例如目标颜色范围的膜厚在80-85纳米，那么低于该基准膜厚的归为一类，即降级片，高于该基准膜厚的归为一类，即返工片，返工片返工处理到基准膜厚；通常在生产过程中，由于设备和外部供气等因素，绝大多处会造成工艺中断，出现较多的颜色膜厚不达标的情况，也就是说降级片较多；

步骤二，测试：对于颜色不达标的降级片通过膜厚测试，确定与基准范围的差距；

步骤三，调整膜厚：根据膜厚差距，在机台上将膜厚不达标的降级片重新进管式PECVD进行补镀工艺，在补镀工艺运行至等离子发射步时，根据膜厚和镀膜时间关系，调整镀膜时间来达到相差的膜厚，从而使色差降级片到达标准膜厚。

本发明通过对降级片进行补镀工艺，使其达到目标颜色，极大地降低了镀膜色差的返工比例，提高了整体合格率，同时也降低了返工成本。

以上仅就本发明较佳的实施例作了说明，但不能理解为是对权利要求的限制。凡是利用本发明说明书所做的等效结构或等效流程变换，均包括在本发明的专利保护范围之内。