[发明专利]研磨装置、研磨系统、基板处理装置、研磨方法以及存储器

权利要求书

1.一种研磨装置，用于在研磨垫与被研磨物之间进行研磨，所述被研磨物与所述研磨垫相对地配置，该研磨装置的特征在于，具有：

研磨台，该研磨台能够保持所述研磨垫；

第一电动马达，该第一电动马达能够旋转驱动所述研磨台；

保持部，该保持部保持所述被研磨物，并且能够向所述研磨垫按压所述被研磨物；

第二电动马达，该第二电动马达能够旋转驱动所述保持部；

摆动臂，该摆动臂保持所述保持部；

第三电动马达，该第三电动马达能够使所述摆动臂绕所述摆动臂上的摆动中心摆动；

检测部，该检测部能够检测所述第一电动马达、所述第二电动马达、以及所述第三电动马达中的一个电动马达的电流值、所述一个电动马达的扭矩指令值、所述一个电动马达的位置指令、和/或所述一个电动马达的速度指令，并生成第一输出；

第一处理部，该第一处理部能够使用表示由所述保持部施加于所述被研磨物的面压与所述第一输出之间的对应关系的第一数据，根据所述第一输出来求出与所述第一输出相对应的所述面压；以及

第二处理部，该第二处理部能够使用表示由所述第一处理部获得的所述面压与第二输出之间的对应关系的第二数据，来求出与由所述第一处理部获得的所述面压相对应的第二输出。

2.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，

所述第一数据是表示由所述保持部施加于所述被研磨物的所述面压与所述第一输出之间的对应关系的第一关系式，和/或所述第二数据是表示由所述保持部施加于所述被研磨物的所述面压与所述第二输出之间的对应关系的第二关系式。

3.根据权利要求2所述的研磨装置，其特征在于，

所述第一关系式是以与所述面压有关的N次多项式来表示所述第一输出的式子，所述第二关系式是以与所述面压有关的N次多项式来表示所述第二输出的式子，所述N是2以上的整数。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨装置，其特征在于，

所述一个电动马达具备三相绕组，

所述检测部能够检测所述一个电动马达的三相电流值，并生成所述第一输出。

5.根据权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，

所述检测部能够将所述一个电动马达的三相电流值的绝对值的和作为所述第一输出而生成。

6.根据权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，

所述检测部能够将所述一个电动马达的三相电流值的绝对值的平方的和作为所述第一输出而生成。

7.根据权利要求1～3、5、6中任一项所述的研磨装置，其特征在于，

该研磨装置具有终点检测部，该终点检测部能够基于所述第二输出来检测表示研磨的结束的研磨终点。

8.一种研磨系统，其特征在于，

该研磨系统具有多个权利要求1～7中任一项所述的研磨装置，所述第二数据是通用于多个所述研磨装置的数据。

9.一种基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置具有多个权利要求1～7中任一项所述的研磨装置，所述第二数据为通用于多个所述研磨装置的数据，该基板处理装置具有：清洗装置，该清洗装置能够清洗被多个所述研磨装置研磨后的多个被研磨物；以及壳体，该壳体用于在内部收容多个所述研磨装置和所述清洗装置。