[发明专利]一种Si-ZrB2-SiC抗氧化涂层及其制备方法在审
申请号: | 201811229891.2 | 申请日: | 2018-10-22 |
公开(公告)号: | CN109320299A | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
发明(设计)人: | 曹英斌;周帆 | 申请(专利权)人: | 湖南国科碳陶新材料科技有限公司 |
主分类号: | C04B41/87 | 分类号: | C04B41/87 |
代理公司: | 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 | 代理人: | 邱轶 |
地址: | 410000 湖南省长沙市开福区伍家*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 渗硅 浆料涂覆 抗氧化涂层 生产周期 涂层孔隙率 工艺结合 基底材料 氧化环境 有效解决 原位反应 含量比 结合力 基底 | ||
1.一种Si-ZrB2-SiC抗氧化涂层,其特征在于,所述涂层中Si:ZrB2:SiC的体积含量比为(5~10%):(25~40%):(50~65%),涂层孔隙率小于0.5%,涂层厚度在50~500μm之间,。
2.如权利要求1所述的Si-ZrB2-SiC抗氧化涂层,其特征在于,所述涂层以C/C复合材料或C/C-SiC复合材料为基底。
3.一种如权利要求1或2所述的Si-ZrB2-SiC抗氧化涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)、配制预涂层浆料:将C粉、ZrO2粉、B4C粉和化学纯硅溶胶混合均匀,配制成预涂层浆料;
2)、将步骤1)所得的预涂层浆料均匀地刷涂在基底表面,然后在90~120℃下烘干,重复刷涂、烘干步骤,直至基底单位面积的质量增加量为0.1~0.5mg/mm2;
3)、以单质硅为原料通过气相渗硅工艺对步骤2)所得的表面有预涂层的基底进行渗硅处理,便在基底表面得到Si-ZrB2-SiC涂层。
4.如权利要求3所述的Si-ZrB2-SiC抗氧化涂层的制备方法,其特征在于,所述步骤1)中的C粉、ZrO2粉、B4C粉和化学纯硅溶胶的质量比为(10~20%):(35~50%):(15~20%):(40~50%)。
5.如权利要求4所述的Si-ZrB2-SiC抗氧化涂层的制备方法,其特征在于,上述步骤2)中的烘干温度为100℃。
6.如权利要求5所述的Si-ZrB2-SiC抗氧化涂层的制备方法,其特征在于,所述步骤3)中的气相渗硅工艺的参数为:真空度50~5000Pa,渗硅温度1500~1800℃,保温时间1~5h。
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