[发明专利]一种光催化膜及利用气相沉积法制备该光催化膜的方法

权利要求书

1.一种光催化膜，其特征在于，所述光催化膜包括基底膜材料和以及沉积在基底膜材料上的光催化剂。

2.根据权利要求1所述的光催化膜，其特征在于，所述基底膜材料为具有多孔结构的无机膜，包括陶瓷膜，二氧化硅纤维膜，不锈钢网，铜网，碳纤维布，碳布，碳纸中的一种。

3.根据权利要求1或2所述的光催化膜，其特征在于，所述光催化剂为含有碳和氮元素的前驱体煅烧得到的。

4.根据权利要求3所述的光催化膜，其特征在于，所述前驱体包括碳氮比为1:3～3:1的小分子有机物，优选尿素，硫脲，单氰胺，双氰胺，三聚氰胺，三聚氰酸中的一种或几种。

5.根据权利要求4所述的光催化膜，其特征在于，所述前驱体的质量与所述基底膜材料的面积的比为0.01～10g/cm²，优选为0.05～2g/cm²。

6.一种制备光催化膜的方法，优选用于制备权利要求1～5之一所述的光催化膜，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

步骤1，取基底膜材料平放于坩埚中；

步骤2，取设定量的前驱体放置于步骤1中的基底膜材料下方；

步骤3，煅烧，得到光催化膜。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，步骤1中，所述基底膜材料为具有多孔结构的无机膜，包括陶瓷膜，二氧化硅纤维膜，不锈钢网，铜网，碳纤维布，碳布，碳纸中的一种。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，步骤2中，所述前驱体的质量与所述基底膜材料的面积的比为0.01～10g/cm²，优选为0.05～2g/cm²；

所述前驱体平铺放置，且平铺的位置与所述基底膜材料的垂直距离为0.5～5.0cm，如1.0cm；

所述前驱体包括碳氮比为1:3～3:1的小分子有机物，优选尿素，硫脲，单氰胺，双氰胺，三聚氰胺，三聚氰酸中的一种或几种。

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，步骤3中，将放置有基底膜材料以及前驱体的坩埚置于马弗炉中，惰性气体保护下煅烧，煅烧温度为400～700℃，优选为480～600℃，煅烧时间为1～6h，优选为2～4h，如3h。

10.根据权利要求1～5之一所述的光催化膜或根据权利要求6～9之一所述的方法制备的光催化膜，其特征在于，其应用于降解处理废水中的可溶性有机污染物，优选降解处理甲基橙，甲基红，罗丹明B，亚甲基蓝，苯酚，水杨酸。