[发明专利]显示面板及制作方法

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

阵列基板；

位于所述阵列基板上的像素定义层，包括第一开口；

位于所述阵列基板上的发光器件层，包括设置于所述第一开口内的显示单元；

位于所述发光器件层上的封装层，包括至少两封装单元，相邻两所述封装单元之间设置有隔挡墙，所述隔挡墙形成于所述发光器件层中的阴极层上；

相邻两所述隔挡墙之间包括至少一无机层和至少一有机层，且相邻两所述隔挡墙之间对应至少一所述显示单元；

所述封装单元至少包括第一无机层、第一有机层及第二无机层，所述第一有机层位于所述第一无机层和所述第二无机层之间；

其中，所述封装层还包括位于所述隔挡墙与所述第二无机层之间的第三无机层，所述第三无机层位于所述隔挡墙上，以及所述第二无机层包括至少两个呈阵列分布的第二无机层单元、及分离所述第二无机层单元的横纵交错的凹槽，所述凹槽在所述隔挡墙上的正投影位于所述隔挡墙内。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔挡墙在所述像素定义层上的正投影，位于相邻两所述第一开口之间的所述像素定义层上。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述封装层包括位于所述发光器件层上的第一无机层、位于所述第一无机层上的第一有机层、及位于所述第一有机层上的第二无机层；

相邻两所述隔挡墙之间包括所述第一无机层及所述第一有机层。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，

所述第三无机层与所述第一无机层在同一道工艺中形成；

所述隔挡墙与所述第三无机层的厚度不大于所述第一无机层与所述第一有机层的厚度。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔挡墙为倒梯形、倒三角形中一种。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述隔挡墙与所述发光器件层之间的第一保护层。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述封装层还包括形成于所述隔挡墙表面的第二保护层；

所述第二保护层包括无机膜层或金属薄膜中的一种。

8.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一阵列基板；

在所述阵列基板上形成像素定义层，

所述像素定义层包括第一开口；

在所述阵列基板上形成发光器件层，

所述发光器件层包括设置于所述第一开口内的显示单元；

在所述发光器件层上形成封装层，

所述封装层包括至少两封装单元，相邻两所述封装单元之间设置有隔挡墙，相邻两所述隔挡墙之间包括至少一无机层和至少一有机层，且相邻两所述隔挡墙之间对应至少一所述显示单元；

其中，在所述发光器件层上形成封装层的步骤包括：

在所述发光器件层上形成至少两所述隔挡墙，

所述隔挡墙在所述像素定义层上的正投影，位于相邻两所述第一开口之间的所述像素定义层上；

在所述隔挡墙及所述发光器件层上沉积一无机膜层，以形成第一无机层和第三无机层，

所述第一无机层位于相邻两所述隔挡墙之间的所述发光器件层上，所述第三无机层位于所述隔挡墙上；

在相邻两所述隔挡墙之间形成第一有机层；

在所述第一有机层及所述第三无机层上形成第二无机层，

所述第二无机层包括至少两个呈阵列分布的第二无机层单元、及分离所述第二无机层单元的横纵交错的凹槽，所述凹槽在所述隔挡墙上的正投影位于所述隔挡墙内。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法，其特征在于，

所述隔挡墙与所述第三无机层的厚度不大于所述第一无机层与所述第一有机层的厚度。