[发明专利]一种导电可透光钙钛矿量子点薄膜的制备方法

说明书

本发明公开了一种导电可透光钙钛矿量子点薄膜的制备方法，包括步骤：带有表面阵列微结构母模板的制备；空穴传输层的制备及涂覆；量子点反应溶液的制备及涂覆；量子点薄膜的压印成型；电子传输层的制备及涂覆；量子点薄膜的表面蒸镀处理；量子点薄膜的表面磨削处理；本发明的一种导电可透光钙钛矿量子点薄膜的制备方法采用压印成型和蒸镀金属等表面处理，实现了导电薄膜的制备，采用表面磨削，实现了薄膜的透光性能；本发明制备的薄膜可透光导电，制备的方法效率高、精度准确，制造成本低，适合大规模生产。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种导电可透光钙钛矿量子点薄膜制备方法。

背景技术

随着显示技术的飞速发展，人们对显示质量的追求越来越高。量子点(QuantumDots)相比于传统LED，作为一种新型荧光材料，具有发射光谱窄、激发光谱宽、量子产率高、发射波长可调等优点，在照明、太阳能电池等领域具有广泛的应用前景。

全无机钙钛矿量子点(CsPbX₃,X＝Cl,Br,I)，具有合成方法简单、节能高效、色域覆盖广、色彩对比度高、显示质量好等优点，但是钙钛矿量子点由于易受到空气中水氧分子的影响，使其分子结构破坏，导致性能不稳定，使用寿命下降。量子点显示技术的又一难点在于，难以形成高精度量子点阵列，目前，主要的量子点阵列制备方法为电诱导法、印刷法、激光加工法，这些制造方法都存在很多缺陷。电诱导法、印刷法精度较高但成本较高，激光加工法效率高但精度较差。难以实现高质量、大批量的量子点阵列生产。

此外，现有的量子点薄膜大多数都是作为光致发光膜，需要背光光源，且光源的能量大部分因产生热量而散失，造成能源浪费；而电致发光通过直接在量子点薄膜上通电致使其发光，这就需要量子点薄膜具有导电性，而现阶段主要使量子点薄膜导电的方法是在薄膜中加入导电粒子，由于导电粒子分布不均匀，导致这种方法制备的导电量子点薄膜光的均匀性较差。

发明内容

有鉴于此，为解决上述现有技术中的问题，本发明提供了一种导电可透光钙钛矿量子点薄膜制备方法，采用压印成型和蒸镀金属等表面处理，实现了导电薄膜的制备，采用表面磨削，实现了薄膜的透光性能；本发明制备的薄膜可透光导电，制备的方法效率高、精度准确，制造成本低，适合大规模生产。

为实现上述目的，本发明的技术方案如下。

一种导电可透光钙钛矿量子点薄膜制备方法，包括以下步骤：

步骤1、带有表面阵列微结构母模板的制备：利用光刻工艺和等离子体刻蚀工艺在单晶硅表面加工出微结构，作为表面压印的母模板；

步骤2、空穴传输层的制备及涂覆：采用PEDOT和PSS水溶液混合物用作空穴传输层，将PEDOT和PSS水溶液用针筒加过滤头过滤，再加入适量的异丙酮调节粘度，离心搅拌后将制备好的混合溶液涂覆在导电玻璃上，得到空穴传输层；

步骤3、量子点反应溶液的制备及涂覆：配制量子点材料前躯体溶液并加入高分子材料PMMA使其充分混合，搅拌均匀，真空脱泡后涂覆在空穴传输层上，得到量子点层；

步骤4、量子点薄膜的压印成型：在量子点层上涂覆一层PMMA胶体，用表面压印母模板进行表面压印成型并固化得到带有表面微结构阵列的量子点层；

步骤5、电子传输层的制备及涂覆：将TiO₂等电子传输层材料溶解在乙醇胺(EA)中，将制备好的电子传输层溶液旋涂在量子点层上，得到电子传输层；

步骤6、量子点薄膜的表面蒸镀处理：在带有表面微结构阵列的量子点层上真空蒸镀一层导电金属，使其覆盖在电子传输层上，得到可导电钙钛矿量子点薄膜；

步骤7、量子点薄膜的表面磨削处理：采用表面磨削技术将量子点薄膜微结构阵列中凸出结构部分去除，得到导电可透光钙钛矿量子点薄膜。