[发明专利]可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器及其制备方法在审
申请号: | 201811151909.1 | 申请日: | 2018-09-29 |
公开(公告)号: | CN109524423A | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
发明(设计)人: | 徐云;张林奥;吕龙锋 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L27/144 | 分类号: | H01L27/144;H01L31/0224;H01L31/105;H01L31/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李坤 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 探测器 制备 探测器表面 聚合物基 石墨烯 旋涂 柔性聚合物材料 近红外探测器 探测器单元 可见光 互联电极 形变 外延片 伪装 探测器单元阵列 连接探测器 单元阵列 立体形状 智能 生长 图形化 未固化 粘连 面型 | ||
1.一种可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,包括:
聚合物基底(10),形状记忆聚合物制成;
探测器单元阵列,由多个探测器单元(20)按阵列排布而成,设置于所述聚合物基底(10)上;以及
石墨烯互联电极(30),石墨烯互联导线制成,用于连接所述探测器单元阵列中的探测器单元(20)。
2.根据权利要求1所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,所述形状记忆聚合物包括:聚甲基丙烯酸甲酯或乙烯与醋酸乙烯酯共聚物。
3.根据权利要求1所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,所述探测器单元阵列中的探测器单元(20)为台面型,由外延片制备而成,探测器单元(20)包含上、下台面且台面表面分别设置有上、下电极。
4.根据权利要求3所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,其中所述外延片的结构由上到下包括:
P接触层和帽层(1),制成材料包括:InP、InGaAsP或InGaAs;
光吸收层(2),制成材料包括:InGaAs;
N接触层(3),制成材料包括:N型掺杂InP、InGaAsP或InGaAs;
牺牲层(4),制成材料包括:InGaAs或InGaAsP;以及
衬底(5),制成材料包括:InP。
5.根据权利要求3所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,所述的探测器单元(20)的上、下电极包括:Au、Ti、Pt、Pd、Cr、Zn或AuGeNi合金的单层电极或它们组合的复合层电极。
6.根据权利要求1所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,所述石墨烯互联电极(30)的石墨烯互联导线的形状包括:波浪形线、S形线、分形或自相似图形。
7.根据权利要求1所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,所述石墨烯互联电极(30)的石墨烯互联导线为单层,横、纵两个方向走线,实现各个探测器单元(20)的信号输出。
8.一种制备方法,用于制备权利要求1至7任一项所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,所述制备方法包括:
步骤A:生长外延片,生长中在外延片衬底(5)与N接触层(3)之间加入与N接触层(3)有高腐蚀选择比的牺牲层(4);
步骤B:用步骤A所生长的外延片制备出台面型探测器单元(20),并使其沿横、纵方向呈二维阵列排布;
步骤C:在步骤B所制备的探测器表面旋涂柔性聚合物材料,并在所述探测器单元(20)之间设置金属互联导线;
步骤D:在步骤C完成后的探测器表面用石墨烯旋涂并图形化,形成探测器单元之间的石墨烯互联导线,制成石墨烯互联电极(30);
步骤E:在步骤D完成后的探测器表面旋涂未固化的柔性聚合物材料;
步骤F:预记忆探测器的聚合物基底(10)的立体形状;以及
步骤G:将步骤E旋涂完柔性聚合物材料的探测器粘连在步骤F所完成预记忆的探测器的聚合物基底(10)上,完成可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器的制备。
9.根据权利要求8所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器的制备方法,步骤B中将所述探测器单元(20)的上台面刻蚀到N接触层(3)的上表面,下台面刻蚀到牺牲层(4)的下表面。
10.根据权利要求9所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器的制备方法,步骤C和步骤E中所旋涂的柔性聚合物材料包括:聚酰亚胺、聚二甲基硅氧烷或生物降解塑料。
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