[发明专利]可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811151909.1 申请日: 2018-09-29
公开(公告)号: CN109524423A 公开(公告)日: 2019-03-26
发明(设计)人: 徐云;张林奥;吕龙锋 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144;H01L31/0224;H01L31/105;H01L31/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李坤
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 探测器 制备 探测器表面 聚合物基 石墨烯 旋涂 柔性聚合物材料 近红外探测器 探测器单元 可见光 互联电极 形变 外延片 伪装 探测器单元阵列 连接探测器 单元阵列 立体形状 智能 生长 图形化 未固化 粘连 面型
【权利要求书】:

1.一种可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,包括:

聚合物基底(10),形状记忆聚合物制成;

探测器单元阵列,由多个探测器单元(20)按阵列排布而成,设置于所述聚合物基底(10)上;以及

石墨烯互联电极(30),石墨烯互联导线制成,用于连接所述探测器单元阵列中的探测器单元(20)。

2.根据权利要求1所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,所述形状记忆聚合物包括:聚甲基丙烯酸甲酯或乙烯与醋酸乙烯酯共聚物。

3.根据权利要求1所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,所述探测器单元阵列中的探测器单元(20)为台面型,由外延片制备而成,探测器单元(20)包含上、下台面且台面表面分别设置有上、下电极。

4.根据权利要求3所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,其中所述外延片的结构由上到下包括:

P接触层和帽层(1),制成材料包括:InP、InGaAsP或InGaAs;

光吸收层(2),制成材料包括:InGaAs;

N接触层(3),制成材料包括:N型掺杂InP、InGaAsP或InGaAs;

牺牲层(4),制成材料包括:InGaAs或InGaAsP;以及

衬底(5),制成材料包括:InP。

5.根据权利要求3所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,所述的探测器单元(20)的上、下电极包括:Au、Ti、Pt、Pd、Cr、Zn或AuGeNi合金的单层电极或它们组合的复合层电极。

6.根据权利要求1所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,所述石墨烯互联电极(30)的石墨烯互联导线的形状包括:波浪形线、S形线、分形或自相似图形。

7.根据权利要求1所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,所述石墨烯互联电极(30)的石墨烯互联导线为单层,横、纵两个方向走线,实现各个探测器单元(20)的信号输出。

8.一种制备方法,用于制备权利要求1至7任一项所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器,所述制备方法包括:

步骤A:生长外延片,生长中在外延片衬底(5)与N接触层(3)之间加入与N接触层(3)有高腐蚀选择比的牺牲层(4);

步骤B:用步骤A所生长的外延片制备出台面型探测器单元(20),并使其沿横、纵方向呈二维阵列排布;

步骤C:在步骤B所制备的探测器表面旋涂柔性聚合物材料,并在所述探测器单元(20)之间设置金属互联导线;

步骤D:在步骤C完成后的探测器表面用石墨烯旋涂并图形化,形成探测器单元之间的石墨烯互联导线,制成石墨烯互联电极(30);

步骤E:在步骤D完成后的探测器表面旋涂未固化的柔性聚合物材料;

步骤F:预记忆探测器的聚合物基底(10)的立体形状;以及

步骤G:将步骤E旋涂完柔性聚合物材料的探测器粘连在步骤F所完成预记忆的探测器的聚合物基底(10)上,完成可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器的制备。

9.根据权利要求8所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器的制备方法,步骤B中将所述探测器单元(20)的上台面刻蚀到N接触层(3)的上表面,下台面刻蚀到牺牲层(4)的下表面。

10.根据权利要求9所述的可伪装可形变的智能可见光至近红外探测器的制备方法,步骤C和步骤E中所旋涂的柔性聚合物材料包括:聚酰亚胺、聚二甲基硅氧烷或生物降解塑料。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811151909.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top