[发明专利]半导体存储器件在审

专利信息
申请号: 201811126074.4 申请日: 2018-09-26
公开(公告)号: CN109697999A 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: 辛贤真 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G11C7/12 分类号: G11C7/12;G11C16/24
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 李娜
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体存储器件 位线 响应 第二控制信号 第一控制信号 升压电流 使能信号 配置 控制信号生成电路 存储单元阵列 预充电电流 预充电电路 存储单元 升压电路
【说明书】:

本公开提供了一种半导体存储器件,所述半导体存储器件包括:存储单元阵列,包括连接到多条位线的多个存储单元;控制信号生成电路,被配置为响应于所述半导体存储器件的第一工作温度而产生第一控制信号,并且响应于所述半导体存储器件的第二工作温度而产生第二控制信号;预充电电路,被配置为响应于使能信号而向所述多条位线中的第一位线提供预充电电流;以及升压电路,被配置为响应于所述使能信号而向所述第一位线提供升压电流,其中所述升压电流的幅值是对所述第一控制信号和所述第二控制信号之一的响应。

本申请要求于2017年10月23日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请号为10-2017-0137566的优先权,其公开内容通过引用整体并入本文。

技术领域

本公开涉及一种半导体存储器件。

背景技术

可以使用流过存储单元阵列的位线的导通电流来感测非易失性存储器件中的导通/关断存储单元。可以对存储单元阵列的位线进行预充电,以允许导通电流流过该位线。为了精确的导通/关断存储单元感测,可以将存储单元阵列的位线预充电到特定电平。

当半导体存储器件的工作温度较高时,由于漏电流等导致预充电时间可能很长。因此,当半导体存储器件的工作温度很高时,可能需要相对较大的预充电电流。另一方面,当半导体存储器件的工作温度很低时,如果像半导体存储器件的工作温度很高的情况那样使用相对较大的预充电电流对位线进行预充电,则可能导致过度预充电。结果,可能降低位线的工作速度。

发明内容

本发明构思的各方面提供了一种半导体存储器件,所述半导体存储器件能够使用根据工作温度而变化的电流对存储单元阵列的位线进行预充电来缩短预充电时间。

然而,本发明构思的各方面不限于本文所阐述的各方面。通过参考下面给出的本发明构思的详细描述,对于本发明构思所属领域的普通技术人员而言,本发明构思的上述和其他方面将变得更加明显。

根据本发明构思的一些实施例,提供了一种半导体存储器件,包括:存储单元阵列,所述存储单元阵列包括连接到多条位线的多个存储单元;控制信号生成电路,所述控制信号生成电路被配置为响应于所述半导体存储器件的第一工作温度而产生第一控制信号,并且响应于所述半导体存储器件的第二工作温度而产生第二控制信号;预充电电路,所述预充电电路被配置为响应于使能信号而向所述多条位线中的第一位线提供预充电电流;以及升压电路,所述升压电路被配置为响应于所述使能信号而向所述第一位线提供升压电流,其中所述升压电流的幅值是对所述第一控制信号和所述第二控制信号之一的响应。

根据本发明构思的一些实施例,提供了一种半导体存储器件,包括:存储单元阵列,所述存储单元阵列包括连接到多条位线的多个存储单元;控制信号生成电路,所述控制信号生成电路被配置为产生具有响应于第一工作温度的值的第一控制信号以及产生具有响应于第二工作温度的值的第二控制信号;以及升压电路,所述升压电路连接到电压源并且被配置为由所述第一控制信号和所述第二控制信号中的任何一个控制。所述控制信号生成电路被配置为响应于所述第一工作温度产生第一控制电流以及响应于所述第二工作温度产生第二控制电流。当所述升压电路由所述第一控制信号控制时,所述升压电路向所述多条位线中的第一位线提供第一升压电流,所述第一升压电流的幅值与所述第一控制电流的幅值相同,当所述升压电路由所述第二控制信号控制时,向所述第一位线提供第二升压电流,所述第二升压电路的幅值与所述第二控制电流的幅值相同。

根据本发明构思的一些实施例,提供了一种半导体存储器件,包括:存储单元阵列,所述存储单元阵列包括连接到多条位线的多个存储单元;控制信号生成电路,所述控制信号生成电路被配置为响应于所述半导体存储器件的第一工作温度而产生第一控制信号,并且响应于所述半导体存储器件的第二工作温度而产生第二控制信号;以及感测电路,所述感测电路被配置为响应于使能信号产生预充电电流,响应于所述使能信号以及所述第一控制信号和所述第二控制信号之一而产生升压电流,并且向所述多条位线中的第一位线提供所述预充电电流和所述升压电流。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811126074.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top