[发明专利]化合物钾硼碳氧氯氢和钾硼碳氧氯氢非线性光学晶体及制备方法和用途在审

专利信息
申请号: 201811105727.0 申请日: 2018-09-21
公开(公告)号: CN109112612A 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 潘世烈;张雪艳;吴红萍 申请(专利权)人: 中国科学院新疆理化技术研究所
主分类号: C30B7/10 分类号: C30B7/10;C30B29/12;G02F1/355;G02F1/35
代理公司: 乌鲁木齐中科新兴专利事务所(普通合伙) 65106 代理人: 张莉
地址: 830011 新疆维吾尔*** 国省代码: 新疆;65
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摘要:
搜索关键词: 硼碳 氧氯 非线性光学晶体 制备 非线性光学器件 光参量振荡器 化合物化学式 晶体生长过程 非线性光学 三方晶系 生长周期 水热法制 无机原料 物化性质 晶体的 空间群 水热法 倍频 转换 应用
【权利要求书】:

1.一种化合物钾硼碳氧氯氢,其特征在于该化合物的化学式为K9[B4O5(OH)4]3(CO3)Cl·7H2O,分子量为1147.16,采用水热法制备,所得产物为晶体。

2.一种化合物钾硼碳氧氯氢非线性光学晶体,其特征在于该晶体的分子式为K9[B4O5(OH)4]3(CO3)Cl·7H2O,分子量为1147.16,属于三方晶系,空间群为P 2c,单胞参数为a =11.219(4) Å,b = 11.219(4) Å,c = 17.079(8) Å,Z = 2。

3.根据权利要求2所述的钾硼碳氧氯氢非线性光学晶体的制备方法,其特征在于采用水热法制备晶体,具体操作按下列步骤进行:

a、将KCl加入到体积为25-100mL的高压反应釜的聚四氟乙烯内衬中,加入H3BO3,再加入Cs2CO3或K2CO3,最后加入去离子水5-50 mL,使其充分混合均匀,得到混合液,其中KCl、K2CO3和H3BO3摩尔比为1.5-2.25:0.9-1.7:1;KCl、Cs2CO3和H3BO3摩尔比为1.5-2.25:0.7-1.2:1;

b、将步骤a中的混合溶液加入矿化剂为NH4Br、NH4Cl或PbO,搅拌均匀,得到混合液,其中矿化剂的加入量与步骤a中Cs2CO3或K2CO3的摩尔比0.4-2.5:1-35;

c、将步骤b中混合溶液所在的聚四氟乙烯内衬的盖子旋紧,再装入相应的高压反应釜中,将反应釜活塞旋紧;

d、将步骤c中的高压反应釜放置在恒温箱内,以20-60℃/h的升温速率升至150-200℃,恒温1-15天,再以4-50℃/h的降温速率或自然冷却至室温;

e、打开高压反应釜,将含有晶体的溶液过滤,即得到透明的钾硼碳氧氯氢非线性光学晶体。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于步骤c中将溶液放在干净无污染的高压反应釜。

5.根据权利要求2所述的钾硼碳氧氯氢非线性光学晶体在制备倍频发生器、上或下频率转换器或光参量振荡器中的用途。

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