[发明专利]一种瞬态吸收检测系统和方法有效
申请号: | 201811044523.0 | 申请日: | 2018-09-07 |
公开(公告)号: | CN109115707B | 公开(公告)日: | 2020-11-27 |
发明(设计)人: | 耿锋;李亚国;许乔;刘志超;王度;欧阳升;金会良;袁志刚;张清华;王健 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | G01N21/31 | 分类号: | G01N21/31;G01N21/01 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 吴开磊 |
地址: | 610000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 瞬态 吸收 检测 系统 方法 | ||
1.一种瞬态吸收检测系统,其特征在于,所述系统包括泵浦光源、探测光源、脉冲延时发生器、第一反射镜、第二反射镜、第一分束镜、第二分束镜、第一离轴抛物镜、第二离轴抛物镜、第三离轴抛物镜、第四离轴抛物镜、第一透镜、第二透镜、第一电荷耦合器件和第二电荷耦合器件;
所述脉冲延时发生器与所述泵浦光源和所述探测光源分别连接以用于控制由所述泵浦光源发射的泵浦光与由所述探测光源发射的探测光同步;
所述泵浦光源的出光侧朝向所述第一反射镜以使得由所述泵浦光源发射的泵浦光经所述第一反射镜反射后入射至测试样品;
所述探测光源的出光侧朝向所述第二反射镜,所述第一分束镜位于所述第二反射镜与所述第二分束镜之间,所述第一离轴抛物镜和所述第二离轴抛物镜分别位于所述第二分束镜的两侧,所述第三离轴抛物镜位于所述第一透镜和所述第一离轴抛物镜之间,且所述测试样品位于所述第一离轴抛物镜和所述第三离轴抛物镜之间,所述第一透镜位于所述第三离轴抛物镜和所述第一电荷耦合器件之间,所述第四离轴抛物镜位于所述第二离轴抛物镜与所述第二透镜之间,且参考样品位于所述第四离轴抛物镜和所述第二离轴抛物镜之间,所述第二透镜设置于所述第四离轴抛物镜和所述第二电荷耦合器件之间;
其中,所述第二反射镜用于将由所述探测光源发射的探测光反射至所述第一分束镜,所述分束镜用于对入射的探测光进行分光后形成多个探测脉冲序列并入射至所述第二分束镜,所述第二分束镜用于对入射的多个探测脉冲序列进行分光形成由该第二分束镜透射至所述第一离轴抛物镜的第一探测子光以及由该第二分束镜反射至所述第二离轴抛物镜的第二探测子光,所述第一离轴抛物镜对入射的第一探测子光进行聚焦后反射至所述测试样品进行样品激发后继续入射至所述第三离轴抛物镜,所述第三离轴抛物镜用于对入射的第一探测子光进行收集后入射至所述第一透镜,并经由该第一透镜聚焦后入射至所述第一电荷耦合器件进行光斑成像;
所述第二离轴抛物镜对入射的第二探测子光进行聚焦后反射至所述参考样品进行样品激发后继续入射至所述第四离轴抛物镜,所述第四离轴抛物镜用于对入射的第二探测子光进行收集后入射至所述第二透镜,并经由该第二透镜聚焦后入射至所述第二电荷耦合器件进行光斑成像。
2.根据权利要求1所述的瞬态吸收检测系统,其特征在于,所述第一分束镜的分光比为1:9,所述第二分束镜的分光比为1:1。
3.根据权利要求1所述的瞬态吸收检测系统,其特征在于,所述第二反射镜和所述第一分束镜平行设置。
4.根据权利要求1所述的瞬态吸收检测系统,其特征在于,所述系统还包括示波器、第一光电检测器、第二光电检测器、第一光楔和第二光楔;
所述第一光楔设置于所述泵浦光源和所述第一反射镜之间,所述第二光楔设置于所述探测光源和所述第二反射镜之间,所述第一光电检测器和所述第二光电检测器分别与所述示波器连接,且所述第一光电检测器设置于所述第一光楔的入光侧,所述第二光电检测器设置于所述第二光楔的入光侧。
5.根据权利要求4所述的瞬态吸收检测系统,其特征在于,所述系统还包括准直镜片组,所述准直镜片组设置于所述第二光楔和所述第二反射镜之间,用于对由所述第二光楔出射的光线进行准直后入射至所述第二反射镜。
6.根据权利要求1所述的瞬态吸收检测系统,其特征在于,所述系统还包括设置于所述第三离轴抛物镜和所述第一电荷耦合器件之间的第一滤波片,以及设置于所述第四离轴抛物镜和所述第二电荷耦合器件之间的第二滤波片。
7.根据权利要求4所述的瞬态吸收检测系统,其特征在于,所述系统还包括数据处理设备,所述数据处理设备与所述示波器、所述第一电荷耦合器件和所述第二电荷耦合器件分别连接。
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