[发明专利]一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法及装置

说明书

本发明提供一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法，包括：步骤一，在储备槽A加入室温下的混酸280L‑350L；步骤二，通过添加氢氟酸15L‑30L、硝酸60L‑90L、醋酸30L‑60L，对储备槽A中的混酸进行浓度调节，将混酸的质量分数调到氢氟酸5％‑8％、硝酸30％‑50％、醋酸10％‑30％；步骤三，将腐蚀机中质量分数为氢氟酸5％‑8％、硝酸30％‑50％、醋酸10％‑30％的混酸280L‑350L注入混酸储备槽B；步骤四，将调节好浓度的混酸注入腐蚀机。

技术领域

本发明涉及半导体领域，具体涉及一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法及装置。

背景技术

在半导体硅片的生产工艺中，酸腐蚀工艺是应用最广的去除损伤层的一种方法。比较普遍的方式是通过一定比例的氢氟酸、硝酸、醋酸组成的混酸在一定的温度下与硅片发生化学反应，腐蚀掉表面的损伤层，加工过程中要保证硅片腐蚀的速率，硅片表面的腐蚀均匀性。但随着硅片的尺寸越来越大，器件的线宽越来越小，对硅片的表面平整度要求也越来越高。这就要求对应不同掺杂类型的硅片有更精确的混酸浓度、温度、鼓泡等条件的控制，在硅片品种切换时，混酸的浓度变化非常大。

现在的换液做法有直接排掉原比例的混酸，然后配制新比例的混酸；稍经济一点的做法是在原混酸比例的基础上单独添加氢氟酸、硝酸、醋酸来改变混酸的比例，但是也会排掉一定比例的混酸，造成浪费，并且添加单酸会消耗大量的时间，影响生产效率。

发明内容

针对现有技术存在的问题，本发明提供一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法，以解决对腐蚀过程中，硅片类型改变，相应的腐蚀混酸溶液也要改变，但调节混酸溶液的浓度过程复杂、时间长、效率低的问题。

针对现有技术存在的问题，本发明提供一种提高腐蚀机混酸换液效率的装置，以解决对腐蚀过程中，硅片类型改变，相应的腐蚀混酸溶液也要改变，但调节混酸溶液的浓度过程复杂、时间长、效率低的问题。

本发明的技术方案是：一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法，包括：

步骤一，在储备槽A加入室温下的混酸280L-350L；

步骤二，通过添加氢氟酸15L-30L、硝酸60L-90L、醋酸30L-60L，对储备槽A中的混酸进行浓度调节，将混酸的质量分数调到氢氟酸5％-8％、硝酸30％-50％、醋酸10％-30％；

步骤三，将腐蚀机中质量分数为氢氟酸5％-8％、硝酸30％-50％、醋酸10％-30％的混酸280L-350L注入混酸储备槽B；

步骤四，将调节好浓度的混酸注入腐蚀机。

本发明通过两个储备槽能同时暂存两种不同浓度的混酸，从而能够缩短混酸切换时间，还能减少混酸的浪费，节省成本。

所述步骤一中储备槽内加入室温下的混酸300L。

所述步骤二中添加氢氟酸20L、硝酸80L、醋酸50L。

所述步骤二中对储备槽A中的混酸进行浓度调节，将混酸的质量分数调到氢氟酸6.5％、硝酸35％、醋酸20％。

所述步骤三中，将腐蚀机中质量分数为氢氟酸5％、硝酸30％、醋酸10％的混酸300L注入混酸储备槽B。

作为一种优选方案，一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法，包括：

步骤一，在储备槽A加入室温下的混酸300L；

步骤二，通过添加氢氟酸20L、硝酸80L、醋酸50L，对储备槽A中的混酸进行浓度调节，将混酸的质量分数调到氢氟酸6.5％、硝酸35％、醋酸20％；

步骤三，将腐蚀机中质量分数为氢氟酸5％、硝酸30％、醋酸10％的混酸300L注入混酸储备槽B；