[发明专利]一种消除衬底偏置效应的模拟开关控制电路在审

专利信息
申请号: 201811018047.5 申请日: 2018-09-03
公开(公告)号: CN108832921A 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: 吕江萍 申请(专利权)人: 北方电子研究院安徽有限公司
主分类号: H03K17/687 分类号: H03K17/687
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 耿英;董建林
地址: 233040*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 衬底电压 衬底偏置 控制管 模拟开关控制电路 控制传输电路 端电压 传输电路 控制传输 控制电路 控制信号电平 模拟开关电路 高精度模拟 电路结构 电源电压 开关电路 逻辑关系 模拟开关 双向传输 消除模拟 传输管 宽电压 源漏端 导通 电路 互通
【说明书】:

本发明公开了一种消除衬底偏置效应的模拟开关控制电路,包括控制电路和传输电路;传输电路用于使形成的模拟开关的源漏端即S/D端电压双向互通;控制电路用于控制传输电路的导通和关闭以及控制传输电路的衬底电压,其中,控制管P2、P3、P4控制传输管P1的衬底电压,控制管N2、N3、N4控制传输管N1的衬底电压;控制管根据两个控制信号电平的不同逻辑关系,使传输管P1、N1的衬底电压跟随S/D端电压或者跟随对应的电源电压。本发明的电路消除模拟开关电路的衬底偏置效应,提高了模拟开关电路的精度,实现宽电压范围高精度模拟开关的双向传输,电路结构简单。

技术领域

本发明属于集成电路设计领域,尤其涉及一种消除衬底偏置效应的模拟开关控制电路。

背景技术

MOS管的直流导通电阻RON定义为漏源电压VDS与其电流IDS的比值,在模拟开关应用中,工作在线性区,因VDS很小,一般如(1)式进行计算。

其中μ为载流子的迁移率,Cox为单位面积的栅电容,L为MOS管栅极的长度,W为MOS管栅极的宽度,VGS为MOS管栅源极的电压,VTH为MOS管的阈值电压。

由(1)式可知,在确定的工艺条件下,μ与Cox一定,RON随(W/L)、(VGS-VTH)的增加而减小。当VGS一定时,精度要求不高的情况下,忽略衬底偏置效应的影响,RON近似为一个不变的电阻。

模拟开关利用此特性来双向传输模拟信号,如图1所示,由控制电路和传输电路组成,控制电路由PMOS管P0和NMOS管N0组成,产生控制信号C、CB,控制传输电路的导通和截止,传输电路由PMOS管P1和NMOS管N1并联而成,衬底电压分别接到各自的电源电压VCC、VSS,导通电阻分别按(1)式计算,而等效导通电阻为传输管的两个电阻的并联,决定着此模拟开关的精度。

随着集成电路的发展,模拟信号的幅值范围越来越宽,对模拟开关电路的精度有更高的要求,以前在图1中未考虑的衬底偏置效应问题,在高精度的模拟开关中变得至关重要,大大影响了模拟开关的精度。考虑衬底偏置效应的阈值电压如式(2)。

其中γ为衬底偏置效应系数,VTH0为MOS管的VSB为0时的阈值电压,φF为MOS管的静电势。

由式(2)可知,如果存在衬底偏置效应将使MOS管的阈值电压数值提高,导致(VGS-VTH)变小,从而使导通电阻变大,增大了通过提高(W/L)比值来减小导通电阻的难度,同时很大的(W/L)比值与其的乘积也放大了这种变化,造成精度进一步变差。中国专利CN100521536C“高线性度CMOS模拟开关”,涉及提高采样开关的控制电压,消除开关导通电阻随输入信号变化的影响,从而提高线性度,与本发明中消除开关受衬偏效应的影响是不同的;中国专利CN10272138B“一种模拟开关芯片设计方法及芯片装置”,涉及为采用消除一个主开关(PMOS或NMOS)的衬偏效应来提高导通电阻性能,与本发明中同时消除2个主开关PMOS和NMOS的衬偏效应的方案的电路结构是不同的。因此,在对高精度的模拟开关,需要消除衬底偏置效应的影响,提高模拟开关的精度。

发明内容

本发明的目的在于提供一种消除衬底偏置效应的模拟开关控制电路,可以消除模拟开关电路的衬底偏置效应,提高模拟开关电路的精度,实现宽电压范围、高精度模拟开关的双向传输。

实现本发明目的的技术方案:

一种消除衬底偏置效应的模拟开关控制电路,其特征是,包括控制电路和传输电路;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北方电子研究院安徽有限公司,未经北方电子研究院安徽有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811018047.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top