[发明专利]超声波指纹传感器及其制备方法、应用

权利要求书

1.超声波指纹传感器的制备方法，其特征在于，包括下列步骤:

在基材的上表面刻蚀出一个凹槽阵列，在所述基材的上表面涂布干膜或湿膜；

在所述干膜或湿膜上制备通孔阵列，所述通孔阵列的分布与所述凹槽阵列一致，之后固化所述干膜或湿膜，形成牺牲层；

在所述固化之后，向所述凹槽和所述通孔中注入压电陶瓷粉或压电陶瓷浆料，之后烧结成压电陶瓷体，形成压电陶瓷柱阵列；

按照产品的要求，在所述压电陶瓷柱阵列的空隙中注入预设的高分子材料，并固化；之后去除基材，在所述压电陶瓷柱阵列的上下表面分别制作电极，得到产品。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述基材为硅片、碳化硅、氮化硅、金属、陶瓷、玻璃或高分子树脂，优选硅片。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述通孔阵列通过蚀刻、冲压、模压或模切工艺制备。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述注入压电陶瓷粉或压电陶瓷浆料之后和所述烧结之前还包括：

将与所述压电陶瓷柱接触面处的牺牲层去除，形成空气间隙层，将金属氧化物粉填入所述空气间隙层。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述金属氧化物粉为氧化铝、氧化锆或氧化钛等高温金属氧化物粉末。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制作电极的方法为：

在所述压电陶瓷柱阵列的上下表面各做一层电极。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高分子材料为环氧树脂或硅胶。

8.超声波指纹传感器，其特征在于，采用权利要求1-7任一项所述的制备方法制得。

9.根据权利要求8所述的超声波指纹传感器，其特征在于，所述超声波指纹传感器包括压电陶瓷柱阵列，在所述压电陶瓷柱阵列的上表面贴合有与所述压电陶瓷柱相连的电极，在所述压电陶瓷柱阵列的下表面贴合有与所述压电陶瓷柱相连的电极。

10.权利要求8或9所述的超声波指纹传感器的采集指纹的应用。