[发明专利]锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法

权利要求书

1.具有式(1)的锍化合物:

Z-X-L¹-SO₃^- (1)

其中，L¹为直链、支链或环状C₁-C₂₀二价烃基，其可以含有选自羟基、醚键、酯键和卤素原子的基团，X为醚键或酯键，Z为具有式(1A)、(1B)或(1C)的锍阳离子结构的基团：

其中，虚线表示到X的价键，

A为单键、亚磺酰基、或醚键，

R^1a至R^1c各自独立地为直链、支链或环状C₁-C₂₀一价烃基，其可以含有选自羟基、醚键、酯键和卤素原子的基团，R^1a至R^1c的至少一个为以下所示的式(1-1)的基团，条件是，当包括至少两个R^1a时，它们中的两个可以键合在一起以与它们所连接的苯环上的碳原子形成环，当包括至少两个R^1b时，它们中的两个可以键合在一起以与它们所连接的苯环上的碳原子形成环，当包括至少两个R^1c时，它们中的两个可以键合在一起以与它们所连接的苯环上的碳原子形成环，

m1、m2和m3为以下范围的整数：0≤m1≤5，0≤m2≤5，0≤m3≤4，并且m1+m2+m3≥1，

n1、n2和n3为以下范围的整数：0≤n1≤4，0≤n2≤4，0≤n3≤4，并且n1+n2+n3≥1，

k1、k2和k3为以下范围的整数：0≤k1≤5，0≤k2≤4，0≤k3≤3，并且k1+k2+k3≥1，

其中，L²为直链、支链或环状C₁-C₂₀二价烃基，其可以含有选自羟基、醚键、酯键和卤素原子的基团，R^f1和R^f2各自独立地为氢，直链、支链或环状C₁-C₂₀烷基，氟或具有至少一个氟原子的直链、支链或环状C₁-C₂₀氟代烷基，R^f1和R^f2的至少一个为氟或氟代烷基，虚线表示价键。

2.根据权利要求1所述的锍化合物，其中，R^f1和R^f2为三氟甲基。

3.根据权利要求1所述的锍化合物，其具有式(2)：

其中，X和Z如上文所定义，R^f3、R^f4、R^f5和R^f6各自独立地为氢、氟或三氟甲基。

4.根据权利要求3所述的锍化合物，其中R^f5和R^f6二者为氟。

5.根据权利要求1所述的锍化合物，其中式(1-1)的基团为式(1-2)的基团，

其中L^2a为酯键、醚键或硫醚键，R^a1和R^a2各自独立地为氢或甲基，R^f1a和R^f2a各自独立地为氟或直链、支链或环状的具有至少一个氟原子的C₁-C₂₀氟代烷基。

6.光致产酸剂，其包含根据权利要求1所述的锍化合物。

7.抗蚀剂组合物，其包含根据权利要求6所述的光致产酸剂。