[发明专利]一种MEMS压电打印喷头组件集成结构有效

专利信息
申请号: 201810936218.6 申请日: 2018-08-16
公开(公告)号: CN109278409B 公开(公告)日: 2019-07-23
发明(设计)人: 李宝霞 申请(专利权)人: 西安微电子技术研究所
主分类号: B41J2/14 分类号: B41J2/14
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 高博
地址: 710065 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 转接基板 封装基板 压电打印 打印喷头 互连电阻 集成结构 喷头芯片 喷头组件 电连接 减小 墨腔 散热器 电感 控制集成电路 信号传输损耗 金属布线层 柔性电路板 畸变减小 寄生参数 上下表面 性能提升 阵列排布 组件集成 喷嘴 打印头 导通孔 电互连 电接口 硅晶圆 互连线 焦耳热 电容 电阻 键合 封装 延迟 芯片 驱动 贯穿 保证
【权利要求书】:

1.一种MEMS压电打印喷头组件集成结构,其特征在于,包括MEMS压电打印喷头芯片(1)、硅转接基板(2)、封装基板(26)、柔性电路板(28)和电接口(30);MEMS压电打印喷头芯片(1)设置在硅转接基板(2)的一侧,封装基板(26)设置在硅转接基板(2)的另一侧,硅转接基板(2)与封装基板(26)之间设置有驱动/控制集成电路芯片(23);封装基板(26)的另一侧设置有散热器(29),封装基板(26)的一端通过柔性电路板(28)与电接口(30)电连接;MEMS压电打印喷头芯片(1)由硅晶圆键合形成墨腔(13),墨腔(13)阵列排布,每个墨腔(13)的底部对应设置有喷嘴(17),硅转接基板(2)上下表面设置的金属布线层和贯穿硅转接基板(2)的TSV导通孔(21)电连接。

2.根据权利要求1所述的一种MEMS压电打印喷头组件集成结构,其特征在于,驱动/控制集成电路芯片(23)倒装在硅转接基板(2)上与MEMS压电打印喷头芯片(1)相对的表面上,驱动/控制集成电路芯片(23)与MEMS压电打印喷头芯片(1)位置相对;封装基板(26)通过凸点焊球(27)与硅转接基板(2)连接,驱动/控制集成电路芯片(23)通过凸点(24)与硅转接基板(2)连接,驱动/控制集成电路芯片(23)与硅转接基板(2)之间填充底部填充材料(25)。

3.根据权利要求1所述的一种MEMS压电打印喷头组件集成结构,其特征在于,驱动/控制集成电路芯片(23)倒装在封装基板(26)上,驱动/控制集成电路芯片(23)和硅转接基板(2)位于封装基板(26)同侧,驱动/控制集成电路芯片(23)与MEMS压电打印喷头芯片(1)位置相对;封装基板(26)通过凸点焊球(27)与硅转接基板(2)连接,驱动/控制集成电路芯片(23)通过凸点(24)与封装基板(26)连接,驱动/控制集成电路芯片(23)与封装基板(26)之间填充底部填充材料(25)。

4.根据权利要求1所述的一种MEMS压电打印喷头组件集成结构,其特征在于,驱动/控制集成电路芯片(23)通过引线键合线(32)引线键合在封装基板(26)上,驱动/控制集成电路芯片(23)和硅转接基板(2)位于封装基板(26)同侧,驱动/控制集成电路芯片(23)与MEMS压电打印喷头芯片(1)位置相对或驱动/控制集成电路芯片(23)和硅转接基板(2)并排分布在封装基板(26)的同侧。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的一种MEMS压电打印喷头组件集成结构,其特征在于,MEMS压电打印喷头芯片(1)与硅转接基板(2)之间阵列设置有压电薄膜制动器,压电薄膜制动器包括公共下电极(14)、压电薄膜(18)和上电极(16),公共下电极(14)的一侧与墨腔(13)的顶部连接,另一侧分别与多个压电薄膜(18)连接,压电薄膜(18)的另一侧与上电极(16)连接,公共下电极(14)和上电极(16)之间设置有绝缘介质(19),公共下电极(14)通过第二凸点焊球(12)与硅转接基板(2)连接,每个上电极(16)均通过对应的第一凸点焊球(11)与硅转接基板(2)连接,多个第一凸点焊球(11)之间电绝缘,多个第二凸点焊球(12)之间电连通,第一凸点焊球(11)排布在墨腔(13)阵列的排间间隙及一侧,第二凸点焊球(12)排布在墨腔(13)阵列的另一侧。

6.根据权利要求5所述的一种MEMS压电打印喷头组件集成结构,其特征在于,公共下电极(14)为梳状,第二凸点焊球(12)阵列位于梳背,梳齿方向沿电流方向,梳齿间的缝隙位于压电薄膜制动器的缝隙位置,梳齿间的缝隙形状依各排墨腔(13)之间的错位形状设置;公共下电极(14)的梳齿宽度为100~1000微米,梳背宽度为100~1000微米,梳齿间缝隙为1~100微米。

7.根据权利要求5所述的一种MEMS压电打印喷头组件集成结构,其特征在于,公共下电极层(14)的整片金属膜上设置有多个应力释放孔(15),应力释放孔(15)的宽度为5~50微米,长度为20~500微米;或应力释放孔(15)的孔径为5~300微米。

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