[发明专利]张网位置精度测量调节装置以及张网检测调节系统有效

专利信息
申请号: 201810904163.0 申请日: 2018-08-09
公开(公告)号: CN108998757B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 马超;伍青峰;许进;韩丰明;黄世花;苏宇峰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 黄德海
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 位置 精度 测量 调节 装置 以及 检测 系统
【说明书】:

发明公开了一种张网位置精度测量调节装置以及张网检测调节系统,张网位置精度测量调节装置包括:机台、发光模组、感光件以及夹持件,所述机台用于固定掩膜板的安装框架,所述发光模组可移动地设于所述机台上,所述发光模组包括多个发光件,所述发光件用于模拟蒸镀线源,所述感光件与所述机台连接且所述感光件与所述发光模组之间限定出用于容纳掩膜板的张网空间,所述夹持件用于夹持定位所述掩膜板。由此,使张网位置精度测量调节装置对掩膜板的定位精度高,定位更加准确、精度测量的结果更准确。

技术领域

本发明涉及真空蒸镀技术领域,具体而言,涉及一种张网位置精度测量调节装置以及张网检测调节系统。

背景技术

张网是通过精确的测量,将薄如蝉翼的FMM sheet(英文名称:Fine Metal Mask,中文名称:高精度金属掩模板)经过拉伸移动调整,最终焊接在安装框架(Frame)上。整个过程中,对FMM sheet位置的准确测量判断是决定张网质量的关键。

相关技术中,对张网进行测量定位是通过“龙门架”式测量系统实现的,该系统由Y轴运动部件、X轴运动部件、Z轴运动部件以及CCD(英文名称:Charge-coupled Device,中文全称:电荷耦合元件)组成。

该系统在测量定位过程中,Y轴运动部件采用直线电机带动X轴运动部件、Z轴运动部件以及CCD同步沿Y轴运动;X轴运动部件采用直线电机带动Y轴运动部件、Z轴运动部件以及CCD同步沿X轴运动;Z轴运动部件采用滚珠丝杠带动CCD沿Z轴运动,且Y轴、X轴、Z轴之间为串联运动链(即依次进行)。

进而,该系统具有以下的特点,传动链较复杂,上述传动链需要上百个零部件相互配合,需要多个软件系统进行信息交互,整个测量系统体积较大,对于G6H或者更高世代线而言,由于安装框架的尺寸变大,导致运动连各部件尺寸也需要相应增大,进而整个运动链的重量可能达到5T以上。

这样,运动链的结构复杂,定位过程中,涉及的零部件相互的运动配合较多,运动稳定性以及可靠性下降;机构尺寸大,温度变化对机构的整体变形影响较大,无法满足0.1μm的定位精度;运动链的传动精度低、机构部件(部件结构自身的变形)稳定性低、温度变化对机构稳定性的显著改变以及Y轴运动、X轴运动、Z轴运动后的误差累积导致定位精度难以满足要求。

更为重要的是,CCD图像抓取是根据图像二值化后的阈值判断进行的,图像二值化处理过程中会突出强度比区域,削减、削弱弱对比区域,虽然可以实现对FMM sheet的中心位置抓取,但是,FMM sheet为刻蚀件,刻蚀过程中会出现球状刻蚀区,球状刻蚀区会导致蒸镀过程中部分材料蒸镀到球状刻蚀区的开口范围外,造成阴影(英文名称:shadow),进而在实际蒸镀过程中,透过FMM sheet的蒸镀材料会出现类似的“扩散现象”。也就是说,扩散区域+中心区域才是真实的蒸镀范围,但现有技术所采用的图像抓取方法会弱化扩散区域,无法准确获取,精度较低。

综上,传统的“龙门架”式测量系统,自身结构的局限性、测量方法的局限性导致对FMM sheet的位置的测量精度较低。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明提出一种张网位置精度测量调节装置,所述张网位置精度测量调节装置对掩膜板的定位精度高,定位更加准确。

本发明还公开了一种具有上述张网位置精度测量调节装置的张网检测调节系统。

根据本发明第一方面实施例的张网位置精度测量调节装置包括:机台、发光模组、感光件以及夹持件,所述机台用于固定掩膜板的安装框架,所述发光模组可移动地设于所述机台上,所述发光模组包括多个发光件,所述发光件用于模拟蒸镀线源,所述感光件与所述机台连接且所述感光件与所述发光模组之间限定出用于容纳掩膜板的张网空间,所述夹持件用于夹持定位所述掩膜板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810904163.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top