[发明专利]显示面板及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810888567.5 申请日: 2018-08-07
公开(公告)号: CN109243304B 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 王允军;孙雅娟;吴悦迪 申请(专利权)人: 苏州星烁纳米科技有限公司
主分类号: G09F9/30 分类号: G09F9/30;G09F9/33;H01L27/15;H01L21/82
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215123 江苏省苏州市工业*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种显示面板及其制备方法,该方法包括步骤:在光源阵列基板的发光方向设置光敏胶,其中,光源阵列基板包括多个光源,单个光源配置成一个子像素,光敏胶包括波长转换材料、树脂单体、光引发剂、溶剂;选择性点亮光源阵列基板中的光源,曝光对应区域的光敏胶;对经过曝光的光敏胶显影,形成颜色转换层。该方法制备颜色转换层时,将光敏胶设置在光源阵列基板的发光方向上后,利用光源阵列基板中的光源来曝光光敏胶。由于单个光源被配置成一个子像素,光敏胶被曝光的区域与相应的子像素对应,因此形成的颜色转换层具有较高的精度,提高了显示面板制备过程中的合格率。

技术领域

本申请属于显示领域,特别涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

现在的显示面板在制备颜色转换层时,通常利用掩模版对光敏胶进行图案化处理,从而来形成相应的颜色转换层。在图案化过程中形成的颜色转换层的精度是像素级别的,因此对掩模版自身的精度以及对准精度要求较高。因此,对掩模版的自身精度以及控制精度的要求非常高,从而往往会导致显示面板制备的合格率较低。

发明内容

针对上述技术问题,本申请提供一种提高显示面板制备合格率的方法。

一种显示面板的制备方法,其包括步骤:在光源阵列基板的发光方向设置光敏胶,其中,光源阵列基板包括多个光源,单个光源配置成一个子像素,光敏胶包括波长转换材料、树脂单体、光引发剂、溶剂;选择性点亮光源阵列基板中的光源,曝光对应区域的光敏胶;对经过曝光的光敏胶显影,形成颜色转换层。

该方法制备颜色转换层时,将光敏胶设置在光源阵列基板的发光方向上后,利用光源阵列基板中的光源来曝光光敏胶。由于单个光源被配置成一个子像素,光敏胶被曝光的区域与相应的子像素对应,因此形成的颜色转换层具有较高的精度,提高了显示面板制备过程中的合格率。

在其中一个实施例中,光源阵列基板中的光源为LED;优选的,LED为蓝光LED。

在其中一个实施例中,引发剂包括可见光引发剂;优选的,可见光引发剂选自氟化二苯基钛茂或双(五氟苯基)钛茂中的至少一种;更为优选的,可见光引发剂在光敏胶中的质量分数的范围小于5%。

在其中一个实施例中,树脂单体选自丙烯酸类树脂或丙烯酸酯类树脂或环氧类树脂或聚酯类树脂或聚酰胺类树脂中的至少一种。

在其中一个实施例中,波长转换材料包括量子点或/和荧光粉;优选的,光敏胶中波长转换材料的质量分数的范围为1%~10%。

在其中一个实施例中,光敏胶通过喷墨打印或喷涂或涂覆的方式设置在光源阵列基板的发光方向。

在其中一个实施例中,形成的颜色转换层的厚度范围为1~100微米;优选的,颜色转换层的厚度范围为1~50微米。

在其中一个实施例中,光源阵列基板包括被配置成一个像素的第一光源、第二光源和第三光源,第一光源、第二光源和第三光源分别被配置成第一子像素、第二子像素和第三子像素。

在其中一个实施例中,光敏胶包括第一光敏胶、第二光敏胶,第一光敏胶包括第一波长转换材料,第二光敏胶包括第二波长转换材料;在光源阵列基板的发光方向设置第一光敏胶后,点亮第一光源,曝光并显影第一光敏胶;在光源阵列基板的发光方向设置第二光敏胶后,点亮第二光源,曝光并显影第二光敏胶;优选的,第一波长转换材料发射红光,第二波长转换材料发射绿光。

一种显示面板,其包括:光源阵列基板,具有多个光源,单个光源配置成一个子像素;颜色转换层,至少覆盖一个光源。

附图说明

图1为本申请中一个实施例的显示面板制备方法的流程框图;

图2为本申请中另一个实施例的显示面板制备方法的流程框图。

在附图中相同的部件使用了相同的附图标记。附图仅示意性地显示了本申请的实施方案。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州星烁纳米科技有限公司,未经苏州星烁纳米科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810888567.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top