[发明专利]转移头阵列、转移头和转移无机发光二极管的方法有效

专利信息
申请号: 201810873301.3 申请日: 2018-08-02
公开(公告)号: CN109148352B 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 何泽尚 申请(专利权)人: 上海天马微电子有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L33/00
代理公司: 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11603 代理人: 于淼
地址: 201201 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 转移 阵列 无机 发光二极管 方法
【说明书】:

发明公开了一种转移头阵列、转移头和转移无机发光二极管的方法。该转移头用于转移无机发光二极管,包括:在第一方向上依次设置的第一凹槽和第二凹槽,且第一凹槽与第二凹槽连通,其中,第一凹槽用于提供无机发光二极管进出转移头的出入口,无机发光二极管由第一凹槽进入第二凹槽后,至少部分结构被第二凹槽限制在转移头内。通过本发明,能够通过一种结构简单的转移头实现无机发光二极管的拾取与转移。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,更具体地,涉及一种转移头阵列、转移头和转移无机发光二极管的方法。

背景技术

传统的无机发光二极管(Inorganic Light Emitting Diode,ILED)通常作为背光源用于液晶显示器的背光模组中,随着显示技术和无机发光二极管的发展,无机发光二极管作为像素应用于高分辨率显示面板中,实现了一种无机发光二极管显示面板。

其中,在制作无机发光二极管显示面板时,一般需要在生长基板上生长ILED,然后再将生长好的ILED转运至阵列基板。目前,普遍的想法是采用转移头将ILED拾取然后转移到阵列基板,现有转移头主要利用静电力、范德华力、磁力等实现ILED的拾取与转移,转移头的结构比较复杂,不仅导致转移头的制备工艺复杂,难以制作,而且使用过程中容易损坏,导致拾取和转运的成功率降低。

因此,提供一种结构简单的转移头,成为目前急需解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此,本发明提供了一种转移头阵列、转移头和转移无机发光二极管的方法,以通过一种结构简单的转移头实现ILED的拾取与转移。

为了达到上述目的,第一方面,本发明提供了一种转移头。

该转移头用于转移无机发光二极管,包括:在第一方向上依次设置的第一凹槽和第二凹槽,且第一凹槽与第二凹槽连通,其中,第一凹槽用于提供无机发光二极管进出转移头的出入口,无机发光二极管由第一凹槽进入第二凹槽后,至少部分结构被第二凹槽限制在转移头内。

为了达到上述目的,第二方面,本发明提供了一种转移头阵列。

该转移头阵列包括呈阵列排布的多个转移头,该转移头为本发明提供的任意一种转移头。

为了达到上述目的,第三方面,本发明还提供了一种转移无机发光二极管的方法。

该转移无机发光二极管的方法包括如下步骤:提供第一基板,其中,第一基板上包括若干无机发光二极管;提供转移头,其中,转移头包括第一凹槽和第二凹槽,第一凹槽用于提供无机发光二极管进出转移头的出入口,第二凹槽用于至少将无机发光二极管的部分结构限制在转移头内;将转移头下压,以使位于第一基板的无机发光二极管经由第一凹槽进入转移头内;移动转移头,以使无机发光二极管由第一凹槽移动至第二凹槽;抬起转移头,以使无机发光二极管从第一基板上剥离。

为了达到上述目的,第四方面,本发明还提供了另一种转移无机发光二极管的方法。

该转移无机发光二极管的方法包括如下步骤:提供第二基板,其中,第二基板用于设置若干无机发光二极管;将位于转移头的第二凹槽内的无机发光二极管与第二基板固定,其中,第二凹槽用于至少将无机发光二极管的部分结构限制在转移头内;移动转移头,以使无机发光二极管由第二凹槽移动至转移头的第一凹槽,其中,第一凹槽用于提供无机发光二极管进出转移头的出入口;抬起转移头,以使无机发光二极管经由第一凹槽脱离转移头。

与现有技术相比,本发明提供的转移头阵列、转移头和转移无机发光二极管的方法,至少实现了如下的有益效果:

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