[发明专利]液晶器件相位调控特性测量装置和测量方法

说明书

一种连续激光辐照下液晶器件相位调控特性测量装置和测量方法，所述的测量装置包括探测激光器、第一偏振分光镜、第一半波片、聚焦透镜、样品台、第二半波片、第二偏振分光镜、功率计和计算机，该方法通过探测激光的功率变化在线实时测量连续激光作用下液晶器件相位调控特性变化。该方法简单易行，可以准确评估不同激光参数作用对液晶器件相位调控特性的影响。

技术领域

本发明涉及液晶器件，特别是一种连续激光辐照下液晶器件相位调控特性测量装置和测量方法。

背景技术

液晶器件具有相位调控功能，在光束空间整形、相干波前校正、动态全息、光镊技术、自适应光学、光束偏转等方面具有广泛的应用。激光辐照会加热液晶器件，尤其是高功率连续激光辐照，会使液晶器件表现出明显的热效应，从而影响液晶器件的相位调控功能。测量连续激光辐照下液晶器件的相位调控特性变化，对液晶器件在连续激光中的应用具有非常重要的科学意义和实用价值。

发明内容

本发明提出一种连续激光辐照下液晶器件相位调控特性测量装置和测量方法。该方法简单易行，可以准确评估不同激光参数作用对液晶器件相位调控特性的影响。

本发明的技术解决方案如下：

一种液晶器件相位调控特性的测量装置，其特点在于包括探测激光器、第一偏振分光镜、第一半波片、聚焦透镜、样品台、第二半波片、第二偏振分光镜、功率计和计算机，上述部件的关系如下：

待测的液晶器件置于所述样品台上，所述探测激光器输出探测激光经所述的第一偏振分光镜、第一半波片、聚焦透镜后辐照于所述液晶器件表面，在探测激光经所述液晶器件的反射光路上依次是所述的第二半波片、第二偏振分光镜、功率计，所述的功率计的输出端接所述计算机的输入端，所述的连续激光在所述液晶器件前方辐照所述液晶器件，所述的探测激光经过第一半波片后，偏振态与液晶分子长轴成45°；探测激光经过第二半波片后，偏振态与液晶分子的长轴成-45°。

利用上述液晶器件相位调控特性的测量装置测量液晶器件相位调控特性的方法，该方法包括下列步骤：

①将所述的功率计首先放置在所述的聚焦透镜后，开启所述的探测激光器，所述的功率计测量并记录探测激光的功率为P₀并输入所述的计算机；

②将所述功率计放置在第二偏振分光镜后，无连续激光加载时，所述功率计探测的激光功率为P₁并输入所述的计算机；

③所述的连续激光辐照所述的液晶器件表面与所述的探测激光辐照的同一位置，所述功率计示数无明显变化后的激光功率为P₂并输入所述的计算机；

④关闭所述连续激光后，所述功率计示数无明显变化后，记录激光功率为P₃并输入所述的计算机；

⑤所述计算机按下列公式计算

依次获得液晶器件在无连续激光加载、有连续激光加载、连续激光卸载后液晶器件的实时调控相位β₁，β₂，β₃；

⑥改变所述连续激光的辐照功率或者时间，重复②～⑤，即可获得不同连续激光参数作用对液晶器件相位调控特性的影响。

本发明的技术效果是：

本发明通过探测激光功率的变化在线实时表征连续激光对液晶器件相位调控特性的影响，简单易行，可在线实时连续激光作用下测量液晶器件相位调控特性的变化。

附图说明

图1是本发明液晶器件相位调控特性测量装置的示意图。

图2是计算机记录的探测光功率变化图。

具体实施方式