[发明专利]显示基板的制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

制作第一基板，所述第一基板上包括待形成量子点发光层的第一表面；

在所述第一表面上形成隔挡层，所述隔挡层包括若干个隔挡条，所述若干个隔挡条具有相同的延伸方向；

将第二基板压合在所述隔挡层之上，以使相邻的两个所述隔挡条之间形成微流体通道；

将所述微流体通道的一端浸入到量子点墨水中，以使所述量子点墨水在毛细力的作用下填充到所述微流体通道中；

将填充到所述微流体通道中的所述量子点墨水烘干，以在所述微流体通道中形成所述量子点发光层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述量子点墨水填充到所述微流体通道中之后，所述方法还包括：

对所述微流体通道中的所述量子点墨水进行交联处理。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一基板包括多个由第一颜色的子像素区域排成的子像素列，所述在所述第一表面上形成隔挡层，包括：

在所述第一表面上形成包括所述若干个隔挡条的图形，以使每个所述第一颜色的子像素区域均位于相邻的两个所述隔挡条之间，且每两个相邻的所述子像素列之间的区域各自被一个所述隔挡条覆盖。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述制作第一基板，包括：

形成包括像素电极层的图形，所述像素电极层在每个所述第一颜色的子像素区域内各自包括一个像素电极。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在将填充到所述微流体通道中的所述量子点墨水烘干之后，所述方法还包括：

分离所述第一基板和所述第二基板。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，在分离所述第一基板和所述第二基板之后，所述方法还包括：

去除所述第一基板上的所述隔挡层。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

在形成所述量子点发光层之后，对所述量子点发光层进行选择性刻蚀，以使所述量子点发光层具有所期望的厚度和/或图案。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第一表面上形成隔挡层之后，将第二基板压合在所述隔挡层之上之前，所述方法还包括：

对所述隔挡层进行表面处理，以使所述若干个隔挡条的顶面均为位于同一平面内的平坦表面。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二基板与所述隔挡层相压合的表面被配置为疏水表面。

10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1至9中任一项所述的方法制作形成的显示基板。