[发明专利]一种四电子均相还原剂、还原剂的制备方法及其应用有效
| 申请号： | 201810653138.X | 申请日： | 2018-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN110627826B | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 韩振刚;刘承琪;徐人威;李琰;周颖;王雄;韩晓昱;李艳芹;穆蕊娟;韦清华 | 申请（专利权）人： | 中国石油天然气股份有限公司 |
| 主分类号： | C07F7/08 | 分类号： | C07F7/08;C07C37/64;C07C39/08;C07F1/02 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 王玉双;鲍俊萍 |
| 地址： | 100007 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 电子 均相 还原剂 制备 方法 及其 应用 | ||
1.一种四电子均相还原剂，其特征在于，还原剂是2,3,4,5,2’,3’,4’,5’-八芳基螺环噻咯四负离子化合物，结构如式(I)所示：
式中，所述Ar为苯基、2，6-二甲基苯基或2，6-二异丙基苯基中的一种；M为碱金属；S选自四氢呋喃、乙醚或乙二醇二甲醚中的一种，并以配位键形式和噻咯化合物络合。
2.根据权利要求1所述的均相还原剂，其特征在于，式(I)中，M选自金属锂、钠或钾中的一种。
3.根据权利要求2所述的均相还原剂，其特征在于M选自金属锂。
4.根据权利要求1所述的均相还原剂，其特征在于，S选自乙二醇二甲醚。
5.根据权利要求1所述均相还原剂的制备方法，其特征在于，还原剂的制备方法是以式(II)结构的芳基螺环噻咯化合物为原料，将式(II)化合物于-20℃～20℃下，在含氧溶剂中通过碱金属还原得到，芳基螺环噻咯化合物、碱金属与含氧溶剂的摩尔质量比为1:(2～4):(8～10)，反应时间为0.5～2h，
其中，所述式(II)原料化合物中Ar为苯基、2，6-二甲基苯基或2，6-二异丙基苯基中的一种；含氧有机溶剂选自四氢呋喃、乙醚或乙二醇二甲醚中的一种。
6.根据权利要求5所述均相还原剂的制备方法，其特征在于，含氧有机溶剂选自乙二醇二甲醚。
7.一种权利要求1至4之一所述四电子均相还原剂的应用，其特征在于，还原剂应用于二醌、氧气、碘甲烷、双三苯基膦二氯化钯的还原反应。
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