[发明专利]用于制造有机发光二极管面板的精细金属掩模

权利要求书

1.一种精细金属掩模，设有蒸镀孔，其特征在于，包括：

掩模基材；以及

纳米屏蔽层，在上述掩模基材的表面，通过在包括蒸镀面的区域涂敷超疏液物质来形成。

2.根据权利要求1所述的精细金属掩模，其特征在于，上述蒸镀面包括上述掩模基材的表面中的上述蒸镀孔之间的区域。

3.根据权利要求1所述的精细金属掩模，其特征在于，上述掩模基材在表面中的包括上述蒸镀面的区域中形成有凹凸图案。

4.根据权利要求3所述的精细金属掩模，其特征在于，

上述凹凸图案形成为从上述掩模基材的表面朝向下部形成的槽结构或沟槽结构，

上述凹凸图案呈具有槽结构的点状图案或者具有沟槽结构的格子状图案、蜂窝状图案或条纹状图案。

5.根据权利要求4所述的精细金属掩模，其特征在于，

上述沟槽结构的相对于延伸方向垂直的方向的宽度为10nm～100μm，

上述凹凸图案以上述沟槽结构的相互隔开的相隔距离为10nm～1000μm的方式形成。

6.根据权利要求3所述的精细金属掩模，其特征在于，

上述凹凸图案形成为从上述掩模基材的表面朝向上部突出的突起结构，

上述突起结构呈圆柱、四棱柱、六棱柱、圆锥、四棱锥或六棱锥形状。

7.根据权利要求3所述的精细金属掩模，其特征在于，上述凹凸图案通过蚀刻工序呈不规则形状。

8.根据权利要求3所述的精细金属掩模，其特征在于，上述纳米屏蔽层与凹凸图案形成于上述掩模基材的表面的作为与上述蒸镀面相反的面的相向面。

9.根据权利要求1所述的精细金属掩模，其特征在于，还包括界面层，上述界面层形成于上述掩模基材与上述纳米屏蔽层之间，使得上述掩模基材与纳米屏蔽层的结合力增加。

10.根据权利要求9所述的精细金属掩模，其特征在于，上述界面层包含选自由TixOy、FexOy、AlxOy、SixOy、SnxOy、ZnxOy、InxOy、CexOy及ZrxOy组成的组中的一种金属氧化物、石墨烯或石墨烯氧化物。

11.根据权利要求1所述的精细金属掩模，其特征在于，上述超疏液物质包含含有碳氟基或烃基的由下述结构式(1)表示的硅烷类化合物，

结构式(1)：

在上述结构式(1)中，n为4～25。

12.根据权利要求1所述的精细金属掩模，其特征在于，上述超疏液物质为(十七氟-1，1，2，2-四氢癸基)三氯硅烷。

13.根据权利要求11所述的精细金属掩模，其特征在于，在上述纳米屏蔽层通过涂敷超疏液粒子来形成，上述超疏液粒子通过在基本粒子的表面涂敷上述硅烷类化合物来形成，上述基本粒子包含选自由TixOy、FexOy、AlxOy、SixOy、SnxOy、ZnxOy、InxOy、CexOy、ZrxOy、石墨烯及石墨烯氧化物组成的组中的物质。

14.根据权利要求11所述的精细金属掩模，其特征在于，

上述掩模基材是在表面形成有氧化膜的金属材质，

上述硅烷类化合物的硅烷基与存在于上述掩模基材的表面的金属基(-M)或氧基(-O)磁性结合。

15.根据权利要求1所述的精细金属掩模，其特征在于，上述超疏液物质包含含有碳氟基或烃基的由下述结构式(2)表示的磷酸类化合物，

结构式(2)：

在上述结构式(2)中，n为4～25。